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          北京華科易通分析儀器有限公司>>光譜分析儀>>ICP單道掃描光譜儀>> HK-8100稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀

          稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀

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          參考價 326800
          訂貨量 1
          具體成交價以合同協(xié)議為準
          • 型號 HK-8100
          • 品牌 其他品牌
          • 廠商性質 生產商
          • 所在地 北京市
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          更新時間:2019-12-10 17:48:59瀏覽次數:2972

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          產品簡介

          應用領域 環(huán)保,化工,石油,地礦,能源
          稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析。是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的技術產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。

          詳細介紹

                 稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質、石油、化工等行業(yè),以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè),出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

                  它是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的技術產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確、可靠等特點。由于采用了計算機技術,儀器實現了高度智能化,從分析處理到數據采集等環(huán)節(jié)都達到了目前*水平,是一種十分理想的分析儀器。

          公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經驗和和完善熱情的服務為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產品。

          1.稀土元素分析ICP單道掃描光譜儀主要特點

          • 優(yōu)良的光學系統(tǒng),良好的控制系統(tǒng):保證定位準確,信背比優(yōu)良;                                             
          • 采用進口的關鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
          • 極小的基體效應:99%的試樣不用分離基體;
          • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
          • 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%;
          • 穩(wěn)定性:相對標準偏差RSD≤2.00% ;
          • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達25個以上;
          • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
          • 可做定性或定量分析;
          • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數據處理系統(tǒng)提供多種功能,對輸出數據可任意選擇打印。

          2.儀器組成及工作原理

          ,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉換、控制系統(tǒng)、數據處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。

          等離子體是在三重同心石英炬管中產生。炬管內分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負載線圈(內通冷卻水)當高頻發(fā)生器產生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時,其周圍產生交變磁場,使少量氬氣電離產生電子和離子,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞,產生更多的電子和離子,在炬管內形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài),將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強,通過計算由步進電機轉動光柵傳動機構,準確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強轉變?yōu)楣怆娏?,再經電路處理和V/F轉換后,由計算機進行數據處理,zui后由打印機打出分析結果。

          3.主要技術指標

          掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

                     光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

          波長示值誤差:±0.03nm,重復性≤0.005nm。

          zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

          重復性:相對標準偏差 RSD≤1.50%

          穩(wěn)定性:相對標準偏差 RSD≤2.00%

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