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          技術(shù)文章

          金相研磨拋光常見的缺陷及應(yīng)對(duì)措施

          閱讀:1168          發(fā)布時(shí)間:2024-1-18

          一.劃痕

          劃痕即是樣品表面上的線性凹槽,是由研磨粒子造成的。




          金剛砂拋光之后,殘存非常深的垂直刮痕。放大:200x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.確定在粗磨后,試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的磨痕花樣;

          2.必要時(shí)重新進(jìn)行粗磨;

          3.每一道步聚后均應(yīng)仔細(xì)清潔樣品和試樣座,以去掉前一道工序中的大研磨粒子對(duì)磨/拋用具的干擾;

          4.如果在現(xiàn)行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕,請(qǐng)先增加 25~50%的制樣時(shí)間。

          2、褶皺

          樣品較大區(qū)域發(fā)生的塑性變形稱為褶皺,當(dāng)不恰當(dāng)?shù)厥褂醚心チ?、潤滑劑或拋光布時(shí),或者它們的搭配不合適,都將使研磨料象鈍刀一樣作用在作品表面,推擠表面,致使出現(xiàn)皺褶。




          易延展軟鋼上的褶皺。放大:15x,DIC

          應(yīng)對(duì)措施:

          潤滑劑:檢查潤滑劑的用量。潤滑劑量太少時(shí)常發(fā)生推擠,必要時(shí)應(yīng)加大潤滑劑用量。

          拋光布:由于拋光布的高回復(fù)性,研磨料會(huì)被深深壓入拋光布的底部而無法起到研磨作用。

          研磨料:金剛石的顆粒尺寸可能太小,致使無法壓入樣品進(jìn)行研磨。請(qǐng)使用大顆粒研磨料。

          3、偽色

          偽色就是對(duì)樣品表面的非正常著色,主要的原因是由于接觸了外來物質(zhì)。




          由于樹脂與樣品之間的間隙引起的試樣染色。放大:20x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.鑲樣時(shí)避免在樣品和樹脂間有留下縫隙

          2.各道制樣工序后立即清洗并干燥樣品。

          3.在氧化物拋光的后10秒里,用涼水沖洗拋光布,使樣品和拋光布同時(shí)得到清洗,終拋光后避免使用壓縮空氣干燥樣品,因?yàn)閴嚎s空氣含有油或水。

          4.保存樣品時(shí),不能將樣品置于空氣中,因?yàn)闈駳饪赡芙g樣品。應(yīng)該將樣品保存在干燥皿中。

          4、變形

          塑性變形(也可稱為冷加工)可能導(dǎo)致在研磨、精研或拋光之后存在表面下缺陷??稍谖g刻之后首先看到殘余的塑性變形。




          短變形線,限于單個(gè)顆粒。 放大:100x DIC

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.變形是一種浸蝕后即刻顯現(xiàn)的假象(化學(xué)、物理或光浸蝕)。

          2.如果在明場(chǎng)下觀察未浸蝕樣品時(shí)仍可見到懷疑是變形線的形貌,請(qǐng)首先參看“劃痕"這一節(jié)看看如何改進(jìn)制樣方法。

          5、邊緣磨圓

          當(dāng)使用回復(fù)性高的拋光布時(shí),有時(shí)會(huì)同時(shí)研磨樣品的表面和側(cè)面,這種效應(yīng)稱為邊緣磨圓。果樹脂的磨損速率大于樣品,則會(huì)出現(xiàn)這種現(xiàn)象。




          由于樹脂與樣品之間的間隙,邊緣將出現(xiàn)倒角。不銹鋼。放大:500x




          良好的邊緣保護(hù),不銹鋼。放大:500x

          應(yīng)對(duì)措施:

          • 磨制過程中要保護(hù)好需檢驗(yàn)的邊緣,不要因檢驗(yàn)樣品邊緣而對(duì)樣品邊緣過度磨制產(chǎn)生倒角。


          2.拋光時(shí)試樣需要保護(hù)的一邊朝后,不需保護(hù)的一邊在前,迎著拋光盤轉(zhuǎn)動(dòng)的方向進(jìn)行拋光,拋光時(shí)盡可能接近盤心位置,拋光時(shí)間不宜過長。

          6、浮雕

          由于不同相的磨損速率和硬度不同而導(dǎo)致不同的材料剝離速率不同,從而產(chǎn)生浮雕。




          AlSi 中 B4C 纖維,纖維與基材之間的起伏。放大:200x




          與上圖相同,但無起伏。放大:200x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.浮雕主要發(fā)生于拋光階段,研磨后的樣品質(zhì)量要高,給拋光提供好的基礎(chǔ)。
          2.拋光布對(duì)樣品的平整度有顯著影響,低回復(fù)性拋光布要比高回復(fù)性拋光布造成的浮雕效果輕。

          3.拋光布拋光期間應(yīng)保持一定的濕度,并且控制制樣時(shí)間,避免制樣時(shí)間過長。如果出現(xiàn)了浮雕現(xiàn)象必須要重新制樣。

          7、脫落

          研磨過程中,樣品表面處的粒子或晶粒被拽掉后留下的孔洞稱為脫落。由于硬脆材料無法塑性變形,致使樣品表面的微小區(qū)域發(fā)生破碎而脫落或被拋光布拖拽下來。




          夾雜物被拖拽出來。可以看見凸起夾雜物引起的刮痕。放大:500x, DIC

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.切割和鑲樣過程中,不要施加過大的應(yīng)力以免損傷樣品。

          2.粗磨或精磨時(shí),不能使用過大的壓力和粗大的研磨粒子。

          3.應(yīng)使用無絨毛拋光布,這種布不會(huì)將粒子從基體上“拽"出來。

          3.每道工序都必須去掉上道工序造成的損傷,并盡可能地減小本道工序造成的損傷。

          4.每道工序后都檢查樣品,找出何時(shí)發(fā)生脫落,一旦出現(xiàn)脫落就必須重新進(jìn)行磨制。

          8、開裂

          發(fā)生在脆性樣品和多相樣品中的斷裂稱為開裂。當(dāng)加工樣品的能量超過樣品所能吸收的能量時(shí),多余的能量就會(huì)促使開裂。




          等離子涂層與基板之間的裂縫。裂縫源于切割。放大:500x




          真空下使用環(huán)氧樹脂鑲嵌的樣品。裂縫 使用熒光染料填充,從而證明該裂縫在鑲樣之前已存在于材料中。放大:500x

          應(yīng)對(duì)措施:

          切割:必須選擇適當(dāng)?shù)那懈钶?,并?yīng)使用較低的送進(jìn)速度,必要時(shí)采取線切割技術(shù)。

          鑲樣:避免對(duì)脆性材料或樣品進(jìn)行熱壓鑲樣,優(yōu)先使用冷鑲嵌。

          磨樣:粗磨時(shí)避免使用大的壓力。

          9、虛假孔隙率

          有些樣品本身即帶有孔隙,如鑄造金屬、噴涂層或者陶瓷等。因此,重要的是如何獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù),避免由于制樣錯(cuò)誤導(dǎo)致數(shù)據(jù)錯(cuò)誤。軟質(zhì)材料和硬質(zhì)材料的結(jié)果有所不同。

          軟質(zhì)材料:




          超級(jí)合金,3 µm拋光 5 分鐘。 放大:500x




          上圖基礎(chǔ)上1 µm額外拋光 1 分鐘





          上圖基礎(chǔ)上1 µm額外拋光2 分鐘,正確結(jié)果

          硬質(zhì)材料:




          精研之后的Cr2O3等離子涂層




          6 µm 拋光3分鐘之后




          1 µm額外拋光之后。正確結(jié)果

          應(yīng)對(duì)措施:

          易延展的軟材料可輕易地變形。因此,孔洞可能被存在污跡的材料覆蓋。檢驗(yàn)可以顯示孔隙百分比過低。

          硬質(zhì)、脆性材料的表面在首道機(jī)械制備步驟中易于斷裂,因此相對(duì)于實(shí)際情況呈現(xiàn)的孔隙率越高。

          每?jī)煞昼娛褂蔑@微鏡檢查試樣一次,每次檢查相同區(qū)域,以確保是否存在改進(jìn)。

          10、曳尾

          當(dāng)樣品與拋光盤沿同一方向運(yùn)動(dòng)時(shí),曳尾常發(fā)生在析出相或孔洞的周圍。其典型的形狀使其被稱為“曳尾"。




          曳尾。放大:200x,DIC

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.拋光期間,樣品和拋光盤使用相同的旋轉(zhuǎn)速度。

          2.減小拋光用力。

          3.為避免拖尾缺陷的產(chǎn)生制樣時(shí)保持拋光布濕潤,試樣要不停地移動(dòng),避免長時(shí)間的拋光。

          11、污染

          來源于其他部分而不是樣品本身的雜物,并在機(jī)械研磨或拋光過程沉積在樣品表面,這種現(xiàn)象稱之為污染。




          由于 B4C 顆粒與鋁基質(zhì)之間存在輕微起伏,上一步驟的銅沉積樣品的表面。放大:200x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.這種試樣重新輕拋即可去除,如果檢查拋光態(tài)試樣,用酒精淋后進(jìn)行吹風(fēng)時(shí),用酒精棉花在試樣面上輕輕擦洗即可。

          2.為了避免出現(xiàn)污染,各道制樣工序后尤其是后一道工序后要立即清洗并干燥樣品。

          3.當(dāng)懷疑某一種相或粒子可能不屬于真實(shí)組織時(shí),請(qǐng)一定要清潔或者更換拋光布,并且從精磨開始重新制樣。

          12、磨料壓入

          游離的研磨料顆粒壓入樣品表面的現(xiàn)象。由于在金相顯微鏡下觀察嵌入的砂粒形態(tài)與鋼中非金屬夾雜物無法區(qū)分,會(huì)給缺陷分析造成誤判。




          鋁,使用 3 µm 金剛砂研磨,使用低彈性的拋光布。各種金剛砂被鑲嵌到樣品中。放大:500x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.對(duì)于有裂紋、孔洞的樣品,控制制樣的力度,每道工序后要沖洗樣品。

          2.如果發(fā)現(xiàn)裂紋、孔洞內(nèi)有單個(gè)顆粒狀、顆粒尺寸較小并與基體分離的夾雜物,應(yīng)當(dāng)借助于掃描電鏡的能譜進(jìn)行分析以確定是鋼中夾雜物還是制樣時(shí)帶入的。

          13、研磨軌跡

          即研磨粒子在硬表面上無規(guī)運(yùn)動(dòng)而在樣品表面上留下的印痕。雖然樣品上沒有劃痕,但可見到粒子在表面上無規(guī)則運(yùn)動(dòng)留下的清晰痕跡。使用的磨/拋盤或拋光布不合適,或者施加的壓力不準(zhǔn)確,這些錯(cuò)誤合在一起易導(dǎo)致擦痕。




          鋯合金上的研磨軌跡:由于磨料顆粒旋轉(zhuǎn)或滾動(dòng)引起。放大:200x

          應(yīng)對(duì)措施:

          1.高彈性的拋光布。

          2.適量增加研磨/拋光的力度

          附:METALOGRAM法制樣




          金相制樣圖Metalogram

          METALOGRAM 方法簡(jiǎn)介

          Metalogram 基于十種金相制備方法。七種方法,A - G,涵蓋了所有材料。這些方法旨在生成優(yōu)良結(jié)果的樣品。此外,還表示出三種快速制樣方法,即 X、Y 和 Z,這三種方法適用于快速獲得合格結(jié)果。

          使用方法:

          沿X軸找出硬度,
          依據(jù)材料的韌性向下或向上查,與硬度不同的是,韌性較難以確定其準(zhǔn)確數(shù)值,一般依照個(gè)人的經(jīng)驗(yàn)定出后,在Y軸上找出材料的位置。


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