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產(chǎn)品型號
品 牌crisoptical /長恒榮創(chuàng)
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-09-09 10:50:23瀏覽次數(shù):166次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 化工儀器網(wǎng)C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)
C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備
C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)
光源 | 高壓水銀直流汞燈 | 照明范圍 | ≤ф100mm |
---|---|---|---|
≤ф100mm | ф100mm內(nèi)±3% | 對準(zhǔn)精度 | 1μm |
套刻精度 | 1μm | 主機(jī)電源 | 220V±10% |
重量 | ≤100Kg |
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要用途:
本機(jī)針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。
它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要性能指標(biāo):
1. 多種版夾盤
C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。
C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。
2. 真空吸附基片的“承片臺"
C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"三個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。
C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"五個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。
3. 照明
光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。
照明范圍:≤ф100mm
不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%
可使用的波長:g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。
成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在10mw/cm2)。
曝光分辨率:1μm
對準(zhǔn)精度: 1μm
套刻精度: 1μm
4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動(dòng)快門,動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。
5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):
硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。
軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。
微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。
6. 分辯率估計(jì)
如果用戶的“版"、“片"精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上
7. 對準(zhǔn)
觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。
a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。
b.CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);
c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;
d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。
對準(zhǔn)臺:(采用片動(dòng),版不動(dòng)方式)
X、Y調(diào)整:±5mm。
θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°
對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。
整個(gè)對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)。
“接觸、分離"20μm情況下,片相對于版的“漂移量",可調(diào)到≤±0.5μm。
8. 設(shè)備所需能源:
主機(jī)電源: 220V±10% 50HZ
潔凈空氣≥0.4MPα。
真空:-0.07~-0.08MPα。
9. 尺寸和重量:
尺寸:機(jī)體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。
重量:≤100Kg。
機(jī)體放在專用工作臺上。
工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。
高度可調(diào)范圍0~30mm。
重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。
總重量≤200Kg
10. C-25X200型光刻機(jī)的組成
主機(jī)
主機(jī)(含機(jī)體和工作臺)
對準(zhǔn)用單筒顯微鏡
蠅眼曝光頭
附件
主機(jī)附件
3"□型掩版夾盤
4"□型掩版夾盤(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)
用于2"基片的真空夾持承片臺。
用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)
(若需特殊的基片承片臺,訂貨時(shí)用戶提出)
顯微鏡組成
單筒顯微鏡二個(gè)
兩個(gè)CCD
視頻連接線。
計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。
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