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        1. 北京長恒榮創(chuàng)科技有限公司
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          C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備

          參   考   價(jià): 99

          訂  貨  量: ≥1 臺

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號

          品       牌crisoptical /長恒榮創(chuàng)

          廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

          所  在  地北京市

          更新時(shí)間:2024-09-09 10:50:23瀏覽次數(shù):166次

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          光源 高壓水銀直流汞燈 照明范圍 ≤ф100mm
          ≤ф100mm ф100mm內(nèi)±3% 對準(zhǔn)精度 1μm
          套刻精度 1μm 主機(jī)電源 220V±10%
          重量 ≤100Kg
          C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。
          它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

          C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備

          C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要用途:


           本機(jī)針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī),三層減震,組合式,拆卸方便。


           它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。



          C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備主要性能指標(biāo):


          1. 多種版夾盤


           C-25X200型4英寸光刻機(jī)有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。


          C-25X200型6英寸光刻機(jī)有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。



          2. 真空吸附基片的“承片臺"


           C-25X200型4英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"三個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


           C-25X200型6英寸光刻機(jī)設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"五個(gè),分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。



          3. 照明


           光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

          照明范圍:≤ф100mm


          不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%


          可使用的波長:g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。


          成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時(shí),照明度調(diào)在10mw/cm2)。

          曝光分辨率:1μm


          對準(zhǔn)精度: 1μm


           套刻精度: 1μm



          4. 采用進(jìn)口時(shí)間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動(dòng)快門,動(dòng)作準(zhǔn)確可靠。



          5. 該機(jī)為接觸式曝光機(jī),但可實(shí)現(xiàn):


          硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。


          軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。


          微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。



          6. 分辯率估計(jì)


          如果用戶的“版"、“片"精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上



          7. 對準(zhǔn)


          觀察系統(tǒng)為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。


          a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。


          b.CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);


          c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;


          d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。


          對準(zhǔn)臺:(采用片動(dòng),版不動(dòng)方式)


          X、Y調(diào)整:±5mm。


          θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°


          對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。


          整個(gè)對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運(yùn)動(dòng)。


          “接觸、分離"20μm情況下,片相對于版的“漂移量",可調(diào)到≤±0.5μm。



          8. 設(shè)備所需能源:


          主機(jī)電源: 220V±10%   50HZ


          潔凈空氣≥0.4MPα。


          真空:-0.07~-0.08MPα。



          9. 尺寸和重量:


          尺寸:機(jī)體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。


          重量:≤100Kg。


          機(jī)體放在專用工作臺上。


          工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。


          高度可調(diào)范圍0~30mm。


          重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。


          總重量≤200Kg



          10. C-25X200型光刻機(jī)的組成


           主機(jī)


          主機(jī)(含機(jī)體和工作臺)


          對準(zhǔn)用單筒顯微鏡


          蠅眼曝光頭


           附件


          主機(jī)附件


          3"□型掩版夾盤


          4"□型掩版夾盤(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)


          用于2"基片的真空夾持承片臺。


          用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時(shí)安裝到機(jī)器上)


          (若需特殊的基片承片臺,訂貨時(shí)用戶提出)


          顯微鏡組成


          單筒顯微鏡二個(gè)


          兩個(gè)CCD


          視頻連接線。


          計(jì)算機(jī)和22"液晶監(jiān)視器。



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