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DR專用衰減體膜 DF-39
滿足標準：
YY/T 0741-2018 數(shù)字化 X射線機專用技術條件
技術參數(shù)：
1.材料：PMMA，表面做噴砂防刮處理
2.尺寸規(guī)格：450×450mm，尺寸誤差：±0.5mm
3.厚度規(guī)格：20mm厚度 10張，厚度誤差：±0.2mm
自動曝光衰減模體 DF-H3
DF-H3用于檢驗自動曝光控制一致性的檢測模體
技術參數(shù)：
1. 材料：PMMA板，表面做噴砂防刮處理，不易劃傷。
2. 尺寸規(guī)格：450×450mm，尺寸誤差：±0.5mm
3. 厚度規(guī)格：20mm厚度 9張 ,10mm厚度 2張，厚度誤差：±0.2mm 4. 組合厚度：1cm-20cm,1cm增加
5. 可定制專用支架
6. 可定制其他尺寸與厚度。
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