精細(xì)工藝，從光刻膠開始

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，一種特殊的光敏物質(zhì)，是微電子和半導(dǎo)體制造中不可或缺的材料，同時(shí)也是集成電路制造的核心耗材。它不僅關(guān)系到產(chǎn)品的最終性能，更是成品率和可靠性的決定性因素。

在半導(dǎo)體光刻工藝流程中，包括了脫水烘烤、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘、曝光、曝光后烘烤、顯影、堅(jiān)膜烘烤、顯影檢查等環(huán)節(jié)，只有使用固含量合適的光刻膠，才能確保上述流程順利進(jìn)行。

比如，在旋轉(zhuǎn)涂膠的環(huán)節(jié)中，如果使用了固含量偏高的光刻膠，就會(huì)導(dǎo)致涂布后形成相對(duì)較厚的薄膜；反之，則會(huì)形成較薄的涂膜，直接影響了圖案的精細(xì)程度和分辨率。又比如，在顯影環(huán)節(jié)，如果選用了固含量較高的光刻膠，則會(huì)大幅增加所需的顯影時(shí)間，降低了生產(chǎn)效率的同時(shí)，也會(huì)更容易導(dǎo)致光刻膠曝光后發(fā)生形變或收縮，導(dǎo)致圖案的失真和變形。

因此，對(duì)于光刻膠研發(fā)生產(chǎn)企業(yè)來說，只有準(zhǔn)確快速地測(cè)試光刻膠固含量，才能確保產(chǎn)品質(zhì)量合格，并符合客戶要求。然而，如果使用傳統(tǒng)的烘箱，則會(huì)面臨光刻膠在進(jìn)出烘箱時(shí)吸水，導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)、測(cè)試效率低（通常需要數(shù)小時(shí)）的問題，無法完全滿足實(shí)驗(yàn)需求，耽誤生產(chǎn)及研發(fā)進(jìn)度，給客戶帶來損失。

面對(duì)這樣的挑戰(zhàn)，梅特勒托利多超越系列快速水份測(cè)定儀則能完美解決這些問題，同時(shí)確保絕佳的測(cè)試重復(fù)性，助您輕松應(yīng)對(duì)光刻膠的固含量測(cè)定。

光刻膠固含量測(cè)定新革命

梅特勒托利多超越系列快速水份測(cè)定儀具有溫和升溫功能，在設(shè)定的時(shí)間內(nèi)緩慢升溫至設(shè)定的溫度，最大化降低有機(jī)溶劑冷凝回流的發(fā)生概率，也防止光刻膠表面結(jié)膜，確保測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性。

 

 

 

梅特勒托利多超越系列快速水份測(cè)定儀采用環(huán)形鹵素?zé)艏訜幔_保樣品始終均勻受熱；測(cè)試過程中，稱重傳感器不斷記錄樣品重量，并自動(dòng)判斷恒重；測(cè)試結(jié)束后，屏幕上自動(dòng)顯示最終固含量結(jié)果，無需人工計(jì)算，避免出錯(cuò)。與傳統(tǒng)的烘箱相比，用快速水份測(cè)定儀還能避免出現(xiàn)樣品在進(jìn)出烘箱時(shí)吸收實(shí)驗(yàn)室空氣中水份的情況，確保測(cè)試結(jié)果始終準(zhǔn)確。