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[供應(yīng)]氧化還原中試裝置
國(guó)內(nèi)*液晶觸摸屏控制界面，設(shè)備運(yùn)行參數(shù)一目了然?？赏ㄟ^(guò)觸摸屏用戶(hù)界面配置所有設(shè)備運(yùn)行參數(shù)，全自動(dòng)化運(yùn)行。
氧化還原中試裝置概述
本裝置為帶有催化劑再生功能的氧化還原實(shí)驗(yàn)中試裝置。在程序控制下自動(dòng)模擬再現(xiàn)催化劑的燒焦-氧化-還原全部過(guò)程。
國(guó)內(nèi)*液晶觸摸屏控制界面，設(shè)備運(yùn)行參數(shù)一目了然。可通過(guò)觸摸屏用戶(hù)界面配置所有設(shè)備運(yùn)行參數(shù)，全自動(dòng)化運(yùn)行。
該套實(shí)驗(yàn)裝置中內(nèi)置多種高精度傳感器，可實(shí)時(shí)監(jiān)控反應(yīng)器各段的溫度、壓力數(shù)據(jù)，主要管路的流量數(shù)據(jù)等。搭載全新研發(fā)的仁邁流化床控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)流化床各項(xiàng)運(yùn)行參數(shù)的自動(dòng)控制，可由傳感器數(shù)據(jù)自動(dòng)觸發(fā)相應(yīng)操作。
反應(yīng)器可以進(jìn)行分段程序線性控溫，以及高精度長(zhǎng)時(shí)間恒溫操作，配備獨(dú)立的故障檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)關(guān)鍵點(diǎn)的溫度、壓力進(jìn)行獨(dú)立測(cè)控，超出閾值自動(dòng)報(bào)警并采取相應(yīng)處理措施，可靠性高。
該套設(shè)備采用高強(qiáng)度一體化不銹鋼框架，優(yōu)質(zhì)不銹鋼操作面板，堅(jiān)固耐用。
氧化還原中試裝置技術(shù)指標(biāo)：
反應(yīng)器溫度：800℃
線性升溫速率：0.1~40℃/min
恒溫精度：±0.1℃
反應(yīng)器壓力：常壓
氣路流量：0~40L/min
氣路精度：0.1%
催化劑裝填量：0~5000mL（可定制）
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