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貨物所在地:北京北京市
所在地: 意大利
更新時間:2024-06-28 21:00:18
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EDK 6900S系列TDLS激光微量氣體分析儀
NH3 /CH4/HF /HCl /CO2/H2O等
原理
EDK系列產(chǎn)品采用增強型TDLS技術(shù),0,1nm的掃描波長,避免目標(biāo)被測氣體吸收波長的交叉干擾,也可稱為“指紋光譜”,可實現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術(shù)實現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息,此種檢測方法,不需要物理參考池,且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案,儀器具有對被測氣體高準(zhǔn)確度選擇性進行非接觸式測量、免標(biāo)定、低成本、易操作等特點。
EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體,比如NH3、CH4、CO2、H2O等,這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關(guān)重要。高靈敏度和寬的動態(tài)量程,是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜(TDLS)技術(shù)的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
典型應(yīng)用 系列產(chǎn)品
√ CH4甲烷 垃圾填埋 EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測
√ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測 EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監(jiān)測
√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測
√ 逃逸排放 EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監(jiān)測
√ 天然氣監(jiān)測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測
√ 農(nóng)業(yè)領(lǐng)域 EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD)
√ 工業(yè)過程控制
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx
√ 氣候變化研究
√ 環(huán)境研究
√ 呼吸分析
優(yōu)勢
技術(shù)參數(shù)
目標(biāo)氣體 zui低檢測限 典型量程
NH3, (H2O) 氨 ***
(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 20, 50, 100, (500) ppm
HCl, (H2O) * ***
(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 50, 100, (500) ppm
NH3 氨 0.4 ppm 0 – 100 (500) ppm
CH4 甲烷 0.4 ppm 0 – 100 (40'000) ppm
CO2 二氧化碳 4.0 ppm 0 – 1000 (300’000) ppm
* 其他氣體可定制
** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統(tǒng)溫度的突然變化導(dǎo)致的檢測限變化要快于濃度的變化,
*** 基于光譜原因,檢測限隨著高溫增加而會降低,比如 NH3 @ 190°C.
準(zhǔn)確度 ± 2%FS 根據(jù)積分穩(wěn)定性(溫度&壓力)而定
精度 根據(jù)氣體而定
零漂 超過兩小時每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi)
量程漂移 超過八小時每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi)
zui大溫度誤差 < 0.1 讀數(shù)/°C
線性/重復(fù)性 < ± 2%
交叉干擾 由混合氣體定,或者根據(jù)實際工況
顯示分辨率 0.1 ppm
刷新率 1s (可設(shè)置,zui多120 s)
T90時間 2s (@氣量3 L/min)
環(huán)境溫度補償 -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)
zui大樣氣濕度 %濕度,根據(jù)工況,需要輸入標(biāo)定,通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度,可定制
zui大樣氣量 5(1)L/ min; 標(biāo)定時3L/min
供電 VAC220-230/115 50/60 Hz
外殼 19’’ 標(biāo)準(zhǔn)機架安裝(深500mm)
防爆等級 ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制)
氣路接口 世偉洛克 Φ6 mm
測量方式 原位抽取
采樣泵 Internal內(nèi)置
模擬輸出 4-20 mA 電流環(huán)(無隔離)
端口 Ethernet網(wǎng)口
顯示器 5.7” 觸摸屏
數(shù)據(jù)存儲 通過USB口
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)