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當前位置:那諾中國有限公司>>技術文章>>TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀-技術解讀
什么是TOF SIMS? 它可以應用于哪些領域?能提供哪些信息?哪些樣品適用(哪些不適用)?在這一系列文章中,我們將解答所有這些問題,以及更多探討。
飛行時間二次離子質譜法(ToF SIMS)是一種用于研究固體表面和薄膜的三維化學組成的表面分析技術。
聚焦的一次離子束轟擊目標表面,產(chǎn)生中性原子/分子、二次離子和電子。二次離子通過飛行時間質譜儀進行收集和分析。質譜儀通過精確測量離子到達探測器所需的時間(即“飛行時間")來測量離子的質荷比(m/z)。
通過掃描一次離子束在樣品表面的區(qū)域,可以逐像素形成表面的化學圖譜??茖W家和技術人員在學術和工業(yè)環(huán)境中每天都會使用飛行時間二次離子質譜儀進行基礎研究、常規(guī)分析和質量控制。
多年來,一次離子束的局限性使得分析僅限于原子種類和小分子。隨著儀器和離子束設計的進步,現(xiàn)代儀器現(xiàn)在可以常規(guī)地成像大的完整分子。這些新功能使得新應用如雨后春筍般涌現(xiàn),越來越多的生物及生物相關領域的論文開始采用TOF SIMS技術。
ToF SIMS儀器通常比實驗室中常見的其他分析儀器體積更大、價格更昂貴。需要在高真空環(huán)境下(< 1×10-6 mbar)操作,以防止空氣中的氣體分子和離子發(fā)生碰撞,因此需要更大的真空泵、更堅固的密封,以及額外的防止泄露的預防措施。
主要組件 | 次要組件 |
樣品分析腔體(SAC) | 樣品導入系統(tǒng) |
初級離子束 | 低溫冷卻用于低溫分析 |
二次離子提取光學器件 | 電荷補償,如離子 |
質譜儀 | 二次電子成像 |
空間分辨率:因為光束尺寸小到幾百納米,ToF SIMS實現(xiàn)了比其他成像方法更高的空間分辨率。
速度:飛行時間質譜儀的工作速率遠高于其他質譜技術,ToF SIMS儀器可以每秒1000像素的速度運行。
3D成像:通過在同一區(qū)域上多次掃描表面并去除少量物質,ToF SIMS能夠逐層建立材料的3D地圖。
靈敏度:由于斑點尺寸小且撞擊坑淺,這需要非常小心地防止信號丟失。因此,SIMS通常比其他形式的質譜法更靈敏。
動態(tài)范圍:ToF SIMS光譜中離子范圍廣泛,從單個氫離子到幾千道爾頓大小的完整蛋白質分子都可覆蓋。
應用:ToF SIMS具有廣泛應用領域,涵蓋冶金、基礎生物學以及介于兩者之間的大多數(shù)領域。
ToF SIMS提供了樣品詳細的三維化學圖像,揭示了組成樣品的原子和分子信息、它們的分布以及任何存在的污染。這種類型的信息對于許多應用領域都具有重要意義,包括學術研究實驗室、工業(yè)質量控制和研究機構每天都在使用ToF SIMS。材料科學、分析化學、生物學、地質學、制藥科學等眾多領域都能從ToF SIMS提供的詳細化學信息中獲益。
2D成像是ToF SIMS應用中最常見的操作模式之一,通過離子束掃描表面,在每個像素處獲取質譜數(shù)據(jù)。
圖像分辨率范圍廣泛,從幾百像素到400多萬像素不等。單個質量通道圖像顯示了離子在視場中精確的分布情況,而疊加多個質量通道可以展示不同離子之間以及其分布之間的關系。
下圖展示了三個單獨離子圖像和一個覆蓋圖像,代表著生物組織樣本中不同成分。
分析ToF SIMS光譜可以提供樣品的原子或分子組成信息,并能提供各種化合物的總體豐度信息。在某些情況下,也可以確定原子比率,但這需要對樣品進行嚴格控制并謹慎使用參考材料。
大多數(shù)主流的ToF SIMS儀器都配備了串聯(lián)質譜(Tandem mass spectrometry)功能,這對于可靠地識別離子非常有用。Tandem MS也被稱為MS/MS或MS2,涉及隔離感興趣的二次離子,然后將其裂解,并收集產(chǎn)生的碎片形成質譜。通過分析子離子峰,可以以很高的精度確定母離子。
通過在TOF-SIMS儀器上獲得的組織樣品中進行磷脂物種的串聯(lián)質譜分析,確認了母離子為PC34:1+K,并且碎片模式證實了這一結果。
深度剖面分析是一種強大的分析模式,它通過垂直蝕刻樣品并獲取每層質譜來實現(xiàn)。結果是得到了采樣體積中所有原子/分子的輪廓。使用大簇離子可以減少對亞表層的破壞,并最大限度地降低層間混合,從而提高深度分辨率。通過正確選擇離子束和樣品組合,可以實現(xiàn)低至幾納米的深度分辨率。
通過使用NIST Ni/Cr標準參考物質和C60光束進行深度剖面分析,可以展示出5 nm的高分辨率。
與其他質譜和分析技術相比,ToF SIMS的特別之處在于其能夠獲取3D數(shù)據(jù)集。類似于深度剖析,3D分析需要重復獲取許多2D層,并通過蝕刻材料來建立樣品的三維視圖。對于3D分析而言,大簇離子是理想選擇,因為它們對樣品造成的損傷較小,可以同時用于蝕刻和分析。
不同于AFM等能夠捕獲樣品三維地形的技術,SIMS無法區(qū)分3D物體和平面物體。該技術zui適用于表面以下有興趣層的平面樣品。雖然重建非平面樣品的地形是可能的;但這需要事先了解材料結構。
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