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NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-...
NSC-3000(A)全自動磁控濺射系統(tǒng):臺式自動系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...
NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-...
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 T...
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機:*進的全自動濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(可加熱至700度)功能;8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...
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