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那諾中國有限公司

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檢測系統(tǒng): 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀 TOF-MS飛行時間質(zhì)譜儀

刻蝕系統(tǒng): RIE反應離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機

沉積系統(tǒng): 進口光學鍍膜機 TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

生長系統(tǒng): MOCVD設備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設備

清洗去膠系統(tǒng): 等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機

熱真空試驗系統(tǒng): 熱真空試驗箱熱真空環(huán)境模擬試驗設備空間環(huán)境模擬試驗設備熱真空系統(tǒng)

核心組件: Platens樣品臺等離子體源

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