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應(yīng)用領(lǐng)域	化工

HEIDENHAIN海德漢光柵尺測量精度

HEIDENHAIN海德漢特殊的生產(chǎn)設(shè)施和測量設(shè)備造就了海德漢的高質(zhì)量產(chǎn)品。光刻的主要和次主要生產(chǎn)過程都是在潔凈室里完成的，在潔凈室里配備了特殊的溫度穩(wěn)定和防振動隔離裝置。仿形機和其它生產(chǎn)直線和角度刻線用的機械設(shè)備都是由海德漢自己研發(fā)和制造的。

HEIDENHAIN海德漢封閉式光柵尺能有效防塵、防切屑和防飛濺的切削液，是用于機床的理想選擇。

敞開式光柵尺與讀數(shù)頭和光柵尺或鋼帶間沒有機械接觸。這些光柵尺的典型應(yīng)用包括：測量機、比較儀和其它長度計量精密設(shè)備以及生產(chǎn)和測量設(shè)備，例如用在半導(dǎo)體工業(yè)中。

增量式光柵尺決定當(dāng)前位置的方式是由原點開始數(shù)測量步距或細(xì)分電路的計數(shù)信號數(shù)量。海德漢的增量式光柵尺帶有參考點，開機時必須執(zhí)行參考點回零，操作非常簡單、快捷。

式光柵尺無需執(zhí)行參考點回零操作就能直接提供當(dāng)前位置值。光柵尺的位置值通過EnDat接口或其它串行接口傳輸。

敞開式直線光柵尺

敞開式直線光柵尺設(shè)計用于對測量精度要求*的機床和系統(tǒng)。

典型應(yīng)用包括：

半導(dǎo)體業(yè)的測量和生產(chǎn)設(shè)備
PCB電路板組裝機
超高精度機床
高精度機床
測量機和比較儀，測量顯微鏡和其它精密測量設(shè)備
直驅(qū)電機

HEIDENHAIN海德漢光柵尺規(guī)格	LC 195 S	LC 195 S	LC 195 F	LC 195 M
測量標(biāo)準(zhǔn) 線膨脹系數(shù)	帶軌道和增量軌道的Diadur玻璃秤，光柵周期20微米 αtherm？8 x 10–6 k–1
精度等級*	測量長度為±3微米至3040毫米；±5微米
測量長度ml*in mm	140 240 340 440 540 640 740 840 940 1040 1140 1240 1340 1440 1540 1640 1740 1840 2040 2240 2440 2640 2840 3040 3240 3440 3640 3840 4040 4240
功能安全適用于以下應(yīng)用程序	•符合EN 61 508的SIL-2 •3類，pl“d"，根據(jù) EN ISO 13 849-1:2008標(biāo)準(zhǔn)	–
PFH	25 x 10–9; ML > 3040 mm: 40 x 10–9 (海拔高達1000米)	–
安全位置1)	編碼器：±550μm；ml>3040 m m：±2050μm （安全相關(guān)測量步驟sm=220μm）	–
	機械連接：外殼和掃描裝置松動故障排除（第21頁）
界面	DRIVE-CLiQ		Fanuc串行接口/αi接口	三菱高速接口
訂購名稱	DQ01		Fanuc05	Mit03-04
測量步驟 At ±3 µm At ±5 µm	0.001 µm 0.010 µm		αI接口/α接口 0.00125 µm/0.010 µm 0.0125 µm/0.050 µm	0.001 µm 0.010 µm
時鐘頻率（計算時間TCAL）	–
電氣連接	分離可在兩側(cè)連接到安裝塊的適配器電纜（1 m/3 m/6 m/9 m）
電纜長度	≤ 30 m2)		≤ 50 m	≤ 30 m
電壓供應(yīng)	DC 10 V to 28.8 V		DC 3.6 V to 14 V
功耗（大）	10 V: ≤ 1.5 W; 28.8 V: ≤ 1.7 W		3.6 V: ≤ 1.1 W; 14 V: ≤ 1.3 W
橫移速度	≤ 180 m/min (max. acceleration ≤ 100 m/s2)
所需移動力	≤ 4 N
振動55赫茲至2000赫茲影響沖擊11毫秒	外殼：≤200 m/s2（EN 60 068-2-6）掃描單元：≤200 m/s2（EN 60 068-2-6） ≤300 m/s2（EN 60 068-2-27）
工作溫度	0 °C to 50 °C
保護EN 60 5293）	當(dāng)根據(jù)手冊說明安裝時，防護等級為IP53，防護等級為IP64，密封空氣來自DA 400。
質(zhì)量	0.55 kg+2.9 kg/m測量長度
*訂購時請選擇 1）位置值比較后，后續(xù)電子設(shè)備中可能會出現(xiàn)進一步的公差（聯(lián)系后續(xù)電子設(shè)備的制造商） 2）根據(jù)要求延長電纜長度 3）在應(yīng)用中，LC必須防止顆粒和液體侵入。