目錄:青島森泉光電有限公司>>光學(xué)平臺(tái)>>光學(xué)隔振平臺(tái)>> TMC784系列研究等級(jí)光學(xué)平臺(tái)
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更新時(shí)間:2024-10-16 10:02:32瀏覽次數(shù):1335評(píng)價(jià)
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 3萬(wàn)-5萬(wàn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),電子,航天,綜合 |
TMC784系列研究等級(jí)光學(xué)平臺(tái)
研究等級(jí)的 CleanTop 在光學(xué)平臺(tái)性能上是工業(yè)中的。它具有TMC*的CleanTop設(shè)計(jì):小的核心尺寸,高的核心密度設(shè)計(jì),全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級(jí)結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級(jí)的CleanTop在要求很?chē)?yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù),和超快激光技術(shù),以及嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺(tái)振動(dòng)消除系統(tǒng)和此平臺(tái)結(jié)合使用,可以形成好的整體振動(dòng)控制。
TMC784系列研究等級(jí)光學(xué)平臺(tái)特點(diǎn):
1、結(jié)構(gòu)阻尼---研究等級(jí)
2、CleanTop獨(dú)立尼龍杯,每一個(gè)螺紋孔下面都是密封的(25mm)
一般技術(shù)要求:
核心:鋼制蜂窩封閉孔,0.010英寸厚的鋁箔
核心剪切模量:275000 psi
核心單元尺寸:< 0.5 in.2
核心密度:13.3磅/發(fā)生(230公斤/立方米)
平面度:0.005英寸。(0.13毫米)
桌面表層:430系列鐵磁不銹鋼,3/16英寸厚(5毫米)
側(cè)壁:阻尼成型槽鋼,乙烯基覆蓋
螺紋孔:25毫米長(zhǎng)CleanTop尼龍杯
角順應(yīng)性數(shù)據(jù)測(cè)量了平臺(tái)在響應(yīng)校準(zhǔn)錘的沖擊時(shí)所產(chǎn)生的位移。順應(yīng)性是在48in x 96in x 12in的平臺(tái)上測(cè)量的。
研究級(jí):角落順應(yīng)性數(shù)據(jù)可測(cè)量工作臺(tái)響應(yīng)校準(zhǔn)錘沖擊的位移。300 Hz以下的無(wú)響應(yīng)表明具有ji高的阻尼和出色的整體結(jié)構(gòu)性能。順應(yīng)性在一個(gè)48 x 96 x 12英寸的工作臺(tái)上進(jìn)行測(cè)量。
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