詳細(xì)介紹
二手蔡司冷場電鏡,二手熱場場發(fā)射電鏡掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域,進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。
ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設(shè)計,具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能。創(chuàng)新的InLens設(shè)計是目前世界上真正的內(nèi)置鏡筒電子束光路上二次電子探測器,具有最佳的靈敏度和最高的接收效率,而且只接收來自樣品表面的二次電子,因此具有業(yè)界最高等級的分辨率和圖像質(zhì)量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內(nèi)置于鏡筒電子束光路上,試樣的工作距離不受背散射探測器的影響,可以非常接近極靴,這樣可以同時獲得最高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率,且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡創(chuàng)造性的采用電磁、靜電復(fù)合式物鏡,雜散磁場小,可對鐵磁體
二手蔡司冷場電鏡,二手熱場場發(fā)射電鏡儀器參數(shù);
分辨率
1.3nm @ 15KV
2.1nm @ 1 KV
5.0nm @ 0.2KV
2.0nm @ 30KV(VP mode)
放大倍數(shù): 12 - 900,000x
加速電壓: 0.1 - 30 KV
低壓范圍: 2-133Pa 1Pa步進可調(diào)
探針電流: 4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可選)
樣品室: 330 mm (?) x 270 mm (h)
樣品臺: 5軸驅(qū)動
X = 130mm
Y = 130 mm
Z = 50mm
傾斜角T = -3 to 70°
R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)