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更新時間：2024-08-02 10:39:34瀏覽次數(shù)：557次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 產(chǎn)品種類 | 超聲波 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 | 介質(zhì)分類 | 氣體&液體 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,制藥,電氣 |
CMP設(shè)備專用流量計UFM400系列超聲波流量計
一、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）基本概念：
CMP，即化學(xué)機(jī)械拋光，是一種通過化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的方式對硅片表面進(jìn)行精確研磨和拋光的技術(shù)。正是這一技術(shù)的硬件基礎(chǔ)，它能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的全局平坦化，為后續(xù)的工藝提供良好的基礎(chǔ)。CMP設(shè)備是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵工藝設(shè)備。
CMP設(shè)備專用流量計UFM400系列超聲波流量計
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