holmarc HO-SE-01 變角光譜橢偏儀結(jié)合了旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏儀技術(shù)來表征薄膜樣品。它使用高速CCD陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到數(shù)十微米的薄膜，以及從透明到吸收材料的光學(xué)特性。它可以精確地測量光學(xué)常數(shù)，例如折射率，薄膜厚度和消光系數(shù)。

光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。

Holmarc的光譜橢圓儀結(jié)合了旋轉(zhuǎn)分析儀橢偏儀技術(shù)來表征薄膜樣品。它使用高速CCD陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到數(shù)十微米的薄膜，以及從透明到吸收材料的光學(xué)特性。它可以精確地測量光學(xué)常數(shù)，例如折射率，薄膜厚度和消光系數(shù)。

光譜范圍：450-800nm

探測器：線陣CCD攝像機

分辨率：2nm

光源：鹵素?zé)?/td>

入射角：50-75度（分辨率：0.1度，自動操作）

厚度測量范圍：0.1nm-10micron

膜厚分辨率：0.01nm

測得的RI分辨率：0.001

樣品對準(zhǔn)：半自動（光學(xué)檢測），手動10mm高度調(diào)節(jié)和傾斜

樣品臺特點：X-Y平移超過150 x 150mm（可選）

可測量的薄膜參數(shù)：折射率，消光系數(shù)，吸收系數(shù)和薄膜厚度

軟件功能：

采集和分析不同波長和角度下的PSI，增量和反射率

用戶可擴展材料庫

數(shù)據(jù)可以另存為Excel或文本文件

*的數(shù)學(xué)擬合算法

提取厚度和光學(xué)常數(shù)

參數(shù)化模型

多層厚度測量

 

橢偏原理

 

橢偏法是用于薄膜分析的高度靈敏的技術(shù)。該原理依賴于從表面反射時光的偏振態(tài)的變化。

表征極化狀態(tài)，對應(yīng)于電磁波電場的方向；選擇兩個方向作為參考，p方向（平行）和s方向（垂直）。反射光具有在p方向和s方向上不同的相位變化。橢偏法測量這種極化狀態(tài)；

p  =  rp / rs  =  tan Ψe iΔ

其中Ψ和Δ是振幅比和p的相移和S組分。由于橢圓偏振法正在測量兩個值的比率，因此它非常準(zhǔn)確且可重現(xiàn)。

特征
 

    無損非接觸技術(shù)

    單層和多層樣品的分析

    精確測量超薄膜

    測量，建模和自動操作軟件

    對（Ψ，Δ）的統(tǒng)一測量靈敏度

此款產(chǎn)品不用于醫(yī)療，不用于臨床使用，此產(chǎn)品僅用于科研使用。