安晟1200℃ CVD管式爐廣泛應(yīng)用于高等院校，科研院所，工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。 真空管式爐以進(jìn)口鉬絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，具有真空裝置，可以通氣氛抽真空，真空泵可以根據(jù)客戶要求的真空度選配，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點。

安晟1200℃ CVD管式爐由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成 ，最高溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。 PT-T1200管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表，能進(jìn)行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。

1200度CVD管式爐是一種特殊的CVD系統(tǒng)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品。用于：真空燒結(jié)、真空氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多研究領(lǐng)域。安晟1200℃ CVD管式爐

正常工作溫度	1100℃(可選)
最高溫度	1200℃（可選擇）
溫區(qū)長度	400mm（可根據(jù)需求定制）
恒溫區(qū)	150mm（±1℃）
溫控精度	±1℃（具有超溫及斷偶報警功能）
加熱元件	摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層，使其程度延長使用壽命）
加熱速率	0~20 ℃ / 分
工作電壓	AC 208-240V 單相, 50/60 Hz
控溫方式	智能化30段可編程控制（用戶可選配液晶觸摸屏顯示）
爐 管	高純度剛玉爐管
功率	2.5KW
凈 重	60KG
尺 寸	爐體尺寸: 550 x 380 x 520mm 混氣系統(tǒng)尺寸: 600x600x597 mm(更過規(guī)格可根據(jù)用戶需求定制)