濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕法刻蝕又稱為濕化學(xué)刻蝕法。它主要是借助刻蝕劑與待刻材料之間的化學(xué)反應(yīng)將待刻膜層溶解，以達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)。

濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X濕法刻蝕又稱為濕化學(xué)刻蝕法。它主要是借助刻蝕劑與待刻材料之間的化學(xué)反應(yīng)將待刻膜層溶解，以達(dá)到刻蝕的目的。濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準(zhǔn)備、清洗等不涉及圖形的環(huán)節(jié)。

濕法刻蝕機(jī)EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）

光刻膠顯影（KrF/ArF）

SU8厚膠顯影

顯影后清洗

PostCMP清洗

光罩去膠清洗

光刻膠去除

金屬Lift-off處理

刻蝕微刻蝕處理

適用基底的尺寸范圍

型號(hào)	可滿足尺寸范圍
EDC-650-23	小于或等于  6英寸（150mm）直徑圓片或5x5英寸（125mm）邊長(zhǎng)方片
EDC-650-8	小于或等于  8英寸（200mm）直徑圓片或7x7英寸（175mm）邊長(zhǎng)方片
EDC-650-15	小于或等于12英寸（300mm）直徑圓片或9x9英寸（225mm）邊長(zhǎng)方片
EDC-650-X	可根據(jù)用戶特殊要求訂制設(shè)備