對(duì)于許多材料，想觀察其內(nèi)部結(jié)構(gòu)就需要使用到透射電子顯微鏡，但由于透射電鏡對(duì)樣品厚度的限制，絕大部分的材料樣品都不能直接放到透射電鏡進(jìn)行觀察拍攝。因此樣品在進(jìn)行透射電鏡拍攝前需要進(jìn)行前處理，使其變薄至200 nm以下，目前常用的方法有凹坑法、化學(xué)腐蝕法、超薄切片法和離子減薄法。

不同的方法適用于不同的樣品，凹坑法和化學(xué)腐蝕法會(huì)在不同程度上對(duì)樣品有著破壞的弊端，超薄切片在一些脆性材料面前就顯得不那么適用，并且在經(jīng)濟(jì)上也價(jià)格更加高昂，而離子減薄法基本能適用于各類樣品且操作便捷，離子減薄過后的樣品可以直接上透射電鏡進(jìn)行觀察拍攝。

鼎竑GU-AI9000離子減薄儀有著它的優(yōu)勢(shì)，首先它具有無磁聚集離子源，不會(huì)使磁性碎屑吸附在樣品表面，離子束斑大、離子槍易維護(hù)。并且雙離子源可獨(dú)立控制，能量范圍廣，適合各類樣品，同時(shí)具備高能量(快速制樣)和低能量(精細(xì)修復(fù))的功能。其次它的減薄功能十分強(qiáng)大，同時(shí)具有快速、薄區(qū)大和自動(dòng)終止等特點(diǎn)。并且它的真空及制冷系統(tǒng)也在同類設(shè)備中有優(yōu)勢(shì)，使用了內(nèi)置雙泵（浦發(fā)隔膜泵和萊寶渦輪分子泵），不占用多余空間，同時(shí)具有半導(dǎo)體冷臺(tái)制冷，無需液氮也可到達(dá)-30℃。

硅片在電子電器行業(yè)使用廣泛，但硅片屬于脆性樣品，使用其他方法較難制樣，使用GU-AI9000離子減薄儀可有效快速減薄樣品。

這類硬質(zhì)合金在汽車、航空等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，但它具有強(qiáng)度大、硬度高等特點(diǎn)不易制樣，在減薄過程中既要快速又要保持減薄薄區(qū)可觀察，使用GU-AI9000離子減薄儀可以解決這類樣品制備問題。

這類樣品屬于較易制備樣品，在各類行業(yè)都應(yīng)用廣泛。

鋁合金在電器等行業(yè)應(yīng)用廣泛，且這類樣品較易制備。

鋁合金明暗場(chǎng)位錯(cuò)圖像

鼎竑GU-AI9000具有無磁聚集離子源、破孔自動(dòng)終止等技術(shù)優(yōu)勢(shì)，可滿足電鏡制樣前處理需求，是專為上透射電鏡的材料樣品進(jìn)行處理的離子減薄儀。