儀器介紹 | 徠卡EM TIC 3X三離子束研磨儀

時間：2024/11/25閱讀：59

徠卡三離子束研磨儀

Leica EM TIC 3X

使用傳統(tǒng)磨拋技術時，樣品受到形變或機械損傷的可能性，會掩蓋樣品內部真實的結構信息，而針對這一問題，離子束研磨技術利用氬離子轟擊的方式可獲得高質量切割截面或拋光平面，避免機械損傷，獲得適宜于掃描電子顯微鏡（SEM）分析和原子力顯微鏡（AFM）檢測的高質量樣品表面。

靈活裝配系統(tǒng)

徠卡EM TIC 3X三離子束研磨儀可以靈活選擇多種樣品臺，滿足個性化應用需求。

截面切割

標準樣品臺：用于常規(guī)樣品制備以及對制備獲得的平整截面做襯度增強作用（離子束刻蝕），有效加工區(qū)域達4×1 mm，獲得大面積的無應力損傷高質量截面。

平面拋光

旋轉樣品臺：用于對已經機械拋光的樣品表面進行離子束平面拋光，去除機械磨拋產生的涂抹效應和細小劃痕等假象，暴露樣品內部的真實結構。

在離子拋光過程中，樣品可以旋轉或擺動，同時樣品可橫向移動，最大可獲得?25 mm的研磨區(qū)域。小角度擺動模式可應對大尺寸樣品的平面拋光。

高通量制樣

三樣品臺：用于高通量制樣，可同時放入三個樣品，一次運行完成樣品制備。

冷凍制樣

冷凍樣品臺：在低溫環(huán)境下進行離子切割，針對特殊的熱敏感型樣品，如聚合物、橡膠、生物材料等制備獲得高質量結果。溫度控制范圍+30°C ~ -160°C，帶25 L液氮罐，自動泵取液氮。

散焦鞍式離子槍

徠卡三離子束研磨儀配備三把散焦鞍式離子槍。非聚焦離子源能量溫和，不會導致局部溫度過高帶來熱損傷，同時在應對復雜樣品，如復合材料樣品時，表現(xiàn)得更具優(yōu)勢。三把離子槍多角度轟擊，獲得加工面積更大，效率更高，且避免產生窗簾效應。

襯度增強作用

在標準樣品臺的離子切割之后，無需取下樣品，用同樣的樣品載臺在低電壓下即可對樣品進行襯度增強作用，可以強化樣品內不同相之間的拓撲結構（如晶界）。

觀察系統(tǒng)

徠卡采用體視顯微鏡M系列，M80型體視顯微鏡，采用平行光路設計，視覺無疲勞；帶有Ergo-Wedge人體工學設計，肩頸背部無疲勞。徠卡EM TIC 3X配套的體視顯微鏡可用于樣品定位校準和樣品處理過程的觀察，同時可作為手工處理樣品時或裝載樣品時的觀察工具。

全套制樣流程

提供樣品制備和售后技術服務的全套解決方案。在使用徠卡EM TIC 3X之前，可以使用徠卡EM TXP對目標區(qū)域進行精準定位的表面處理，可對樣品進行切割及拋光等。在經過離子束加工后，樣品可被轉移進入后續(xù)步驟，如進入徠卡EM ACE600進行鍍膜或SEM檢測。

徠卡LNT包括超薄切片、組織處理、高壓冷凍、鍍膜、臨界點干燥、機械研磨拋光、離子束研磨等各類技術手段。適用于TEM/SEM/FIB/LM/AFM樣品制備。目前領拓儀器是徠卡LNT的華南、西南授權代理商，為透射電鏡/掃描電鏡/工業(yè)材料樣品提供全套樣品制備服務。

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