詳細介紹
安東帕顯微可視流變儀MCR的光學測量控溫平臺,可以實現(xiàn)一平臺多功能的目的,在一個光學控溫平臺上,可以進行顯微可視、UV光固化、偏光成像、熒光顯微、小角激光散射(SALS)、紅外光譜聯(lián)用、拉曼光譜聯(lián)用等流變-光學同步測量功能,可以在進行流變測試的同時觀察樣品的微觀結構、進行光譜分析。
光學控溫平臺有兩種,一個是Peltier控溫系統(tǒng),溫度范圍為-20℃ - 200℃;另一個是電加熱控溫系統(tǒng),溫度范圍為RT - 300℃。兩種控溫系統(tǒng)均由下加熱板和上加熱罩組成,可實現(xiàn)準確均勻的溫度控制。
光學顯微可視模塊與流變學方法相結合,可以觀察剪切力和變形力對樣品微觀結構的影響,結構參數(shù)和流變參數(shù)可以同時進行研究。例如,您可以通過顯微鏡觀察和記錄剪切場中不同位置的受剪切乳液結構。
在此控溫平臺基礎上可使用的光學模塊包含以下幾個方面:
安東帕顯微可視流變儀MCR顯微可視模塊
長焦物鏡,標準放大倍數(shù) 20X(可按需提供 5X、10X 和 50X 的物鏡)
工作距離 (20X) | 20 mm |
數(shù)字光圈 (20X) | 0.42 |
分辨力 | 0.7 μm |
景深 | 1.6 μm |
光源模式可選 | 白光、偏光、熒光 |
UV光固化測量模塊
用于研究光固化或老化反應的UV測量模塊可以對樣品施加UV照射,可選擇高壓汞燈或LED光源。
SALS小角激光散射模塊
用于研究樣品內微米尺寸范圍的結構信息,通過激光散射分析分散相結構的尺寸信息、取向信息,主要用于乳液、液晶、懸浮液等分散性體系樣品。
偏光成像模塊
主要用于聚合物熔體的剪切誘導結晶研究,觀察樣品在剪切脈沖作用下的結晶偏光圖像。