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        1. 納威科技(深圳)有限公司

          機(jī)械拋光液制備設(shè)備

          參   考   價(jià): ¥ 194600

          訂  貨  量: ≥1套

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào):NP-CMP

          品       牌:其他品牌

          廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

          所  在  地:深圳市

          更新時(shí)間:2024-06-20 14:26:14瀏覽次數(shù):2027

          聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)
          應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè)
          NP-CMP化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。

          NP-CMP化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。


          NP-CMP化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備經(jīng)過測(cè)試的工藝路線,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)The tested process route has achieved mass production ;                      

          智能控制,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),完整數(shù)據(jù)存儲(chǔ),直觀顯示圖、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables;

          轉(zhuǎn)速可調(diào),溫度可控,超聲波強(qiáng)度可調(diào),可定時(shí)Rotating speed adjustable, Temperature controlled, Ultrasonic intensity adjustable, Timed ;

          操作方便簡(jiǎn)潔,清洗容易  Easy and simple operation,easy to clean。

          NP-CMP化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備  參數(shù):

          Items

          實(shí)驗(yàn)型Experiment   Type

          生產(chǎn)型Production   Type

          溫度Temperature(℃)

          -30℃~80℃

          -20℃~80℃

          分散方式Dispersion   Type

          連續(xù)式continuous

          連續(xù)式continuous

          材質(zhì)Material   quality

          玻璃、不銹鋼、鈦   glass or   stainless steel

          不銹鋼、鈦stainless   steel

          規(guī)格Specification

          依容積depend   on volume

          定制customized

          流量Flow   rate

          50~1000ml/min

          可定制customized

          介質(zhì)粘度media   viscosity

          104cP

          104cP

          攪拌轉(zhuǎn)速agitation   speed

          500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

          500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

          剪切轉(zhuǎn)速agitation   speed

          1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇

          1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇

          電源Power

          220V/50Hz

          220V/50Hz   、380V/50Hz

          超聲功率Ultrasonic   power

          200~3000W

          定制customized

          超聲頻率Ultrasonic   Frequency

          20KHz、28KHz40KHz、68KHz

          20KHz28KHz、40KHz、68KHz

          顯示方式Display   model

          數(shù)顯、液晶觸摸屏digital   display,LCD   touch screen 依據(jù)需要可選擇

          液晶觸摸屏LCD   touch screen


          溫度、功率可調(diào)Temperaturepower   adjustment


             NP(納威科技)是一研發(fā)、制備、定制納米、新能源等材料的反應(yīng)、分散、整條產(chǎn)線等設(shè)備及清洗設(shè)備高科技公司。 公司產(chǎn)品開發(fā)遵循“智能化、模塊化、連續(xù)化、小型化"的設(shè)計(jì)原則,堅(jiān)持“設(shè)計(jì)制造最合適的設(shè)備來(lái)滿足用戶的工藝條件"、和“真心為客戶提供最佳的解決方案和服務(wù)"的理念,開發(fā)出來(lái)的系列微納米材料合成、反應(yīng)設(shè)備、微納米材料高效分散設(shè)備廣泛適用于納米Ni、Ag、Cu、FePO4、MnO2、ZrO2、TiO2、Mg(OH)2、SiO2、磷酸鐵、磷酸鐵鋰、三元等多種納米材料的從實(shí)驗(yàn)室研究、小試、中試放大、直到工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用。包括有:1、標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)驗(yàn)室使用的反應(yīng)設(shè)備、分散設(shè)備、攪拌設(shè)備、研磨設(shè)備、清洗設(shè)備等;2、定制各種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備;3、定制實(shí)驗(yàn)室成套設(shè)備;4、定制中試設(shè)備;5、量產(chǎn)設(shè)備等。




          機(jī)械拋光液制備設(shè)備

          NP-CMP化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(

          化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備

          化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光

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