您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)
機(jī)臺型號：PD500-05A
主機(jī)規(guī)格：165mm （W）×365mm （D ） ×460mm （H）
電源系統(tǒng)：AC220V（±20%）（自主研發(fā)）
功率： 150-500ＶＡ（可調(diào)）
處理寬度：2-5mm
主機(jī)重量：10kg
使用溫度范圍：－10℃~+40℃,火陷溫度可控制在100℃
工作氣壓力：100~200Kpa
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
常壓射流等離子直噴槍 Air Jet plasma特點：針對三維物體均勻高效的處理，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
用途：適用于三維物體的表面清洗和表面活化，廣泛應(yīng)用于手機(jī)，塑膠行業(yè)，COG綁定工藝等。
★表面清洗：粘接、點膠前、電鍍前的表面處理。
★表面活化：生物材料的表面修飾，電線電纜表面噴碼，塑料表面涂覆，金屬基材的表面清潔活化，印刷涂布或粘接前的表面處理。
常壓射流等離子直噴槍 Air Jet Plasma屬于低溫等離子處理設(shè)備
低溫等離子體處理可對材料進(jìn)行有效的表面凈化、表面活化、表面粗化、表面蝕刻、表面沉積。
1、等離子體處理的表面清潔作用：
可有效去除物體表面有機(jī)污染物和氧化物。
主要特點：任何濕洗法清洗，表面都會有殘留，只有低溫等離子體表面處理才能做到*的凈化，得到超高潔凈度的表面，且低溫等離子體只對材料納米級的表面起作用，不會改變材料原有的特性，在對表面潔凈度要求較高的工藝中，正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。
處理機(jī)理：主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；重粒子撞擊固體表面；電子與活性基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的大特點是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
2、等離子體處理的活化作用：
經(jīng)低溫等離子體處理后使物體表面形成C=O羰基（Carbonyl）、-COOH羧基（Carboxyl） 、−OH羥基（Hydroxyl）三種基團(tuán)。這些基團(tuán)具有穩(wěn)定的親水功能，對粘接、涂覆有積極作用。
主要特點：可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團(tuán)與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應(yīng)生成新的活性基團(tuán)，從而增加表面能量，改變表面的化學(xué)特性，增強(qiáng)表面附著力、粘結(jié)力、張力，包括對橡膠、復(fù)合材料、玻璃、布料、金屬等的處理，涉及各行各業(yè)。
3、等離子體處理的表面粗化與蝕刻作用：
對應(yīng)不同的材料采用相應(yīng)的氣體組合形成具有強(qiáng)烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理沖擊，使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化，生成如CO、CO2、H2O等氣體，從而達(dá)到微蝕刻的目的。
主要特點：刻蝕均勻，不改變材料基體特性；能有效粗化材料表面，并能精準(zhǔn)控制微蝕量。
4、等離子體處理的涂層（沉積、接枝）作用：
等離子體處理工藝還可以應(yīng)用于對材料的微量涂層。選配兩種相對應(yīng)的不同氣體同時進(jìn)入等離子體反應(yīng)艙，兩種氣體在等離子體環(huán)境下被激發(fā)而重新聚合，會產(chǎn)生新的化合物沉積在材料的表面形成新的涂層，利用等離子體處理的這種*，可以把本來不易涂覆的材料涂覆到物體的表面，例如心臟支架、人造血管的防血液凝固涂層，材料的防刮表面和疏水性涂層等。
主要特點：可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團(tuán)，隨之發(fā)生交聯(lián)、接枝等反應(yīng),活性氣體會在材料表面聚合產(chǎn)生一層沉積層，達(dá)到材料表面改性的目的。
實際上，低溫等離子體對物件進(jìn)行處理的過程中，等離子氣體中的各種正負(fù)離子、高能量并高速運動著的電子、重粒子等都會對被處理材料表面發(fā)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，所以上面所提及的低溫等離子體表面處理的四種（或五種）作用通常都會同時產(chǎn)生。