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PLUTO-30 等離子體材料表面處理系統(tǒng)
中小型 量產級 多功能
Pluto30是專為研發(fā)而設計的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網絡電源在整個過程區(qū)域產生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達7個可調節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴大了該系統(tǒng)的應用范圍，提供給用戶的靈活性。
Pluto30參數(shù) | ||
腔體 | 腔體尺寸 | 300W x 280H x 366Dmm |
容量 | 30L | |
電極數(shù)量 | 多可達8層 | |
電極 | 電極間隙 | 48mm |
功率電極尺寸 | 226W x 210D mm | |
接地電極尺寸 | 260W x 210D mm | |
射頻系統(tǒng) | 射頻功率和頻率 | 300W/13.56MHz |
氣體控制 | MFC控制器 | 標配1個MFC，多4個MFC控制器 |
系統(tǒng)控制 | 7寸工業(yè)觸控屏 | 全數(shù)字控制，實時顯示工作狀況，可設定操作權限和各種報警值，可儲存工藝方案 |
真空泵系統(tǒng) | 油泵 | 32m³/h |
功率 | 220V/10A，50Hz，單相，3線 | |
尺寸 | 外形尺寸 | 706W x 804D x 735H mm |
特別裝置 需求 | 工藝氣體 | 0.25英寸. 氣管快接.適用于 15-20psig; |
凈化氣 | 0.25英寸. 氣管快接. 適用于10-100psig | |
CDA | 0.25英寸. 氣管快接. 適用于60-90psig | |
排氣接口 | KF40 | |
可選項 | 液體前驅體輸送系統(tǒng) | |
500W/13.56MHz射頻系統(tǒng) | ||
37m³/h 干泵 | ||
排氣洗滌器 | ||
油霧消除器 | ||
特征及優(yōu)勢
氣體輸送系統(tǒng)，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法
不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置
*的射頻系統(tǒng)提供的工藝重復性和處理效率
全自動處理能力
圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅動流程并提供實時流程信息
臺式設計需要較小的占地面積
典型應用
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性：預壓模粘合；預焊線粘合
增強表面膠體流動性：預成型；預倒裝芯片下溢
表面粗糙度和蝕刻
降低表面應力，改善表面粘結性
灰化和表面清潔
Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)
電介質/III-IV材料
納米涂層（配備液體前體輸送裝置）
耐水納米涂層：印刷電路板表面處理
防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物
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