產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
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應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè) |
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
型號:BA-GHX1新型多元催化光解箱光化學反應容器分解水的吸光陽極材料
配置單 | 數(shù)量 |
一體式光化學主機 | 1臺 |
雙層石英冷阱250ml | 1個 |
光化學低溫恒溫槽 | 1臺 |
汞燈(1000W) | 1支 |
氙燈(1000W) | 1支 |
金鹵燈(500W) | 1支 |
八位磁力攪拌裝置 | 1套 |
大容量磁力攪拌裝置 | 1套 |
大容量玻璃反應釜 | 1只(250ml,500ml,1000ml可選) |
石英試管 | 8只(30ml,50ml規(guī)格2選1) |
新型多元催化光解箱
光化學反應是指由一個原子、分子、自由基或離子吸收一個光子所引發(fā)的化學反應。常用的光化學反應都是利用波長為400納米之下,800納米之上的光波來進行,也即作為不可見光的紫外線和紅外線。
[0003]氧化銦錫(ΙΤ0)是一種透明導電氧化物半導體材料,具有穩(wěn)定的化學性質(zhì),透光性優(yōu)良、導電能力良好,在太陽能電池、平板顯示、防霜玻璃、節(jié)能建筑窗、航空領域得到廣泛的應用。
[0004]ITO膜在LED外延片上作為透明導電膜的角色,ITO表面的粗糙度對于亮度的提升有明顯的幫助。為了實現(xiàn)該粗糙度,傳統(tǒng)上需要上光阻后蝕刻ΙΤ0,需要經(jīng)過溫度為100°C至600°C的高含量氧氣> lOOsccm)的熱處理后,ITO表面會局部聚積成氧化銦及氧化錫的子顆粒,然后與相應的溶劑對氧化銦或/及氧化錫進行蝕刻,以達到粗糙的程度。
[0005]高溫的加熱除了耗能之外,還常常伴隨著加熱后原液揮發(fā)后對身體的危害,不能滿足現(xiàn)代企業(yè)對環(huán)保生產(chǎn)的要求,降低了企業(yè)的競爭力。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型要解決的技術問題是針對上述現(xiàn)有技術的不足,提供一種光化學反應系統(tǒng),實現(xiàn)不需要加熱而利用可見光LED進行蝕刻、沈積處理,達到節(jié)能、環(huán)保、純凈的效果,對人體無害。
[0007]為解決上述技術問題,本實用新型所采取的技術方案是:一種光化學反應系統(tǒng),包括LED光化學引擎、化學反應容器、控制單元、反應傳感器和反應單元,該控制單元與所述LED光化學引擎、化學反應容器、反應傳感器電性連接,并通過控制單元控制所述LED光化學引擎的啟停和調(diào)節(jié)、以及控制所述反應單元在所述化學反應容器的流通,通過所述反應傳感器對所述化學反應容器內(nèi)的蝕刻、沈積程度向所述控制單元進行反饋;所述反應單元至少包括反應子浸泡在所述第二反應子中。
[0008]上述技術方案中,所述反應傳感器以所應子或第二反應子作為對象,通過電子顯微鏡、質(zhì)譜儀或光接發(fā)器作為途徑,向所述控制單元進行蝕刻、沈積程度的反饋;并且所述反應傳感器設置于所述化學反應容器之外或之內(nèi)。
[0009]上述技術方案中,所述化學反應容器還連通有輸送管道,該輸送管道與多個反應子容器連通。
[0010]上述技術方案中,所述LED光化學引擎所使用的光波波長為400納米至800納米。
[0011]上述技術方案中,所述第二反應子為酸液,為草酸或磷酸。
光化學反應容器分解水的吸光陽極材料
一種光化學反應系統(tǒng),包括LED光化學引擎1、化學反應容器2、控制單元、反應傳感器和反應單元,該控制單元與所述LED光化學引擎1、化學反應容器2、反應傳感器電性連接,并通過控制單元控制所述LED光化學引擎I的啟停和調(diào)節(jié)、以及控制所述反應單元在所述化學反應容器2的流通,通過所述反應傳感器對所述化學反應容器2內(nèi)的蝕刻、沈積程度向所述控制單元進行反饋;所述反應單元至少包括應子3所浸泡到的部分。
[0018]其中,化學反應容器2可以是化學反應槽、化學反應室或化學反應腔,由于本實用新型不需要使用高溫加熱,原液不會發(fā)生揮發(fā),可以使用化學反應槽,以方便操作。
[0019]其中,所述反應傳感器以所述子3或第二反應子4作為對象,通過電子顯微鏡、質(zhì)譜儀或光接發(fā)器作為途徑,向所述控制單元進行蝕刻、沈積程度的反饋;并且所述反應傳感器設置于所述化學反應容器2之外或之內(nèi)。通過電子顯微鏡對基材表面的蝕刻、沈積程度進行圖像觀察并反饋給控制單元。通過光接發(fā)器的光發(fā)射器發(fā)射檢測光波到基材的表面,再反射到對應的光接收器中,根據(jù)所反射檢測光波的強弱來判斷基材表面的蝕刻程度,形成蝕刻,檢測光波會在蝕刻、沈積的位置發(fā)生漫反射,使光接收器接收到的檢測光波減弱,以減弱的程度標識為蝕刻、沈積的程度,當光接收器接收到的檢測光波減弱。質(zhì)譜儀可以測量應子3或第二反應子4的成分,傳送到控制單元,并由控制單元分析比較反應前的成分數(shù)據(jù),而實現(xiàn)是否達到所要求的蝕刻、沈積程度。
光化學反應容器分解水的吸光陽極材料