詳細(xì)介紹
X-RAY膜厚儀原理:X射線或粒子射線經(jīng)物質(zhì)照射后
由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)
此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來,而此時是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。
熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理
就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度,來進(jìn)行定性和定量分析。
產(chǎn)地:韓國
H型測量樣品高10CM,長寬55cm
XRF-2020應(yīng)用:
韓國XRF-2020三款機(jī)型均為全自動,自動雷射對焦
韓國MicroP XRF-2020
X-RAY膜厚儀
電鍍層測厚儀
電鍍膜厚測量儀
通過CCD鏡頭觀察快速無損測試鍍層膜厚
如鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鋅鎳,鍍錫...
可測單層,雙層,多層,合金鍍層