Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩
新聞排行榜
更多產(chǎn)品展示
更多Nanoscribe新型生物兼容彈性體光刻膠|拓寬工業(yè)應(yīng)用
Nanoscribe公司推出全新IP-PDMS光刻膠,該雙光子聚合(2PP)打印材料可制作彈性體3D自由曲面結(jié)構(gòu)。全新IP-PDMS光刻膠所具備的柔軟度,柔韌性,彈性和生物兼容性是為依賴于典型彈性體材料特性的應(yīng)用而定制的。因此,該光敏樹脂材料可廣泛應(yīng)用于未來(lái)多種領(lǐng)域,例如3D打印細(xì)胞支架和組織工程,3D結(jié)構(gòu)表面,微流控設(shè)備和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)等。IP-PDMS針對(duì)Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)進(jìn)行了優(yōu)化,并兼容3D微納加工中尺度解決方案:
IP-PDMS光刻膠特性:
· 楊氏模量比IP-S低三個(gè)數(shù)量級(jí),15.3MPa
· 高彈性特點(diǎn),斷裂拉伸伸長(zhǎng)率超過(guò)240%
· 低折射率特點(diǎn)
· 無(wú)生物毒性,符合ISO 10993-5 / USP 87
· 高柔韌性材料,廣泛適用于不同應(yīng)用
左圖:萊布尼茨新材料研究所的抗壓強(qiáng)度測(cè)試
來(lái)自德國(guó)萊布尼茲新材料研究院(Leibniz INM, Institute for New Materials, Saarbrücken)的 René Hensel博士稱:"Nanoscribe可直接3D打印的IP-PDMS光刻膠非常適合制作具有微觀形貌的功能性表面??梢允÷再M(fèi)時(shí)的塑模環(huán)節(jié),即將設(shè)計(jì)翻模到彈性體材料中,這全新的方式使更多新的設(shè)計(jì)變得可能。"
作為有機(jī)硅基彈性體材料,IP-PDMS具有與常規(guī)PDMS相似的性能,這使得新型IP-PDMS光刻膠成為制作具有柔軟,柔韌性和彈性特點(diǎn)的3D微納結(jié)構(gòu)高精度增材制造的理想打印材料。IP-PDMS的無(wú)生物毒性特點(diǎn)(符合ISO國(guó)際標(biāo)準(zhǔn))為生命科學(xué)和生物學(xué)領(lǐng)域的新型3D打印應(yīng)用奠定基礎(chǔ)。全新光敏樹脂非常適合用于制作彈性體自由曲面細(xì)胞支架以及仿軟組織自然特征的3D設(shè)計(jì)。
由IP-PDMS打印的結(jié)構(gòu)圖示(從左到右):微錐結(jié)構(gòu)特寫;微錐陣列;單個(gè)元素外徑僅50 µm的八面體;八面體陣列;不同體積大小的3D長(zhǎng)方體陣列;長(zhǎng)方體陣列特寫
科學(xué)家們通過(guò)研究壁虎驚人的爬行能力,了解到壁虎的每個(gè)腳底長(zhǎng)者數(shù)百萬(wàn)根極細(xì)的剛毛,而每根剛毛末端又有數(shù)百根更細(xì)的微納米結(jié)構(gòu)分支,這使壁虎可以適應(yīng)任何表面。近日,來(lái)自萊布尼茲新材料研究所(INM)的科學(xué)家們使用Nanoscribe的Photonic Professional系統(tǒng)設(shè)計(jì)各種不同形狀的3D粘附微納結(jié)構(gòu)母版,然后將該母板通過(guò)復(fù)制壓模來(lái)最終制造3D粘附微納結(jié)構(gòu)。該設(shè)計(jì)有望可應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)線的抓取任務(wù),和更多其他應(yīng)用,包括用于維護(hù)服務(wù)的攀爬機(jī)器人或用于清除繞地球軌道飛行的空間碎片系統(tǒng)等。
由3D微納加工母版經(jīng)復(fù)制壓模制造的仿生學(xué)粘附微納結(jié)構(gòu)陣列。
圖片來(lái)自于R. Hensel, INM – Leibniz Institute for New Materials
Nanoscribe的無(wú)掩模雙光子光刻技術(shù)具備*的設(shè)計(jì)自由度,能實(shí)現(xiàn)幾乎任何幾何形狀的粘附微納結(jié)構(gòu)??茖W(xué)家們運(yùn)用該技術(shù)特別設(shè)計(jì)了帶翼面柱狀排列的漏斗形微納結(jié)構(gòu)。通過(guò)調(diào)節(jié)翼面的角度,可以控制微納結(jié)構(gòu)的粘合度,該微納結(jié)構(gòu)無(wú)論是在干燥條件下甚至是水下都能表現(xiàn)出更強(qiáng)的粘合度。
通常這類設(shè)計(jì)和應(yīng)用我們用復(fù)制工藝來(lái)制造的這些具有應(yīng)用潛力的粘附微納柱狀陣列。然而,復(fù)制壓模工藝限制了設(shè)計(jì)自由度,例如較大的底切不能從模具上成形。 Nanoscribe開(kāi)發(fā)的新型可直接打印的彈性體材料,為今后直接打印彈性微納結(jié)構(gòu)的高級(jí)設(shè)計(jì)開(kāi)辟了新的可能性。
Nanoscribe總部位于卡爾斯魯厄,作為一家德國(guó)高科技公司,基于雙光子聚合技術(shù)我們擁有納米級(jí)高精度增材制造技術(shù),擁有針對(duì)科研和工業(yè)領(lǐng)域的創(chuàng)新定制化解決方案,實(shí)現(xiàn)了全球化銷售網(wǎng)絡(luò)和專業(yè)服務(wù)。經(jīng)過(guò)十幾年的技術(shù)鉆研和開(kāi)發(fā),我們已然成為微納米高精度增材制造的市場(chǎng)先鋒者,推動(dòng)者諸如微納光學(xué),微機(jī)械,生物醫(yī)學(xué)工程,微流控,超材料等領(lǐng)域的創(chuàng)新項(xiàng)目。我們的業(yè)務(wù)遍布全球30多個(gè)國(guó)家,擁有超過(guò)2000名活躍的用戶。
更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢
歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司
德國(guó)Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無(wú)掩模光刻系統(tǒng):
Photonic Professional GT2 雙光子微納3D無(wú)掩模光刻系統(tǒng)
Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備