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        1. 森瑪特儀器(北京)有限公司
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          科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

          參  考  價面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準

          產(chǎn)品型號VTC-2DC2英寸

          品       牌其他品牌

          廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

          所  在  地北京市

          更新時間:2024-12-08 11:26:09瀏覽次數(shù):1018次

          聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 地礦,航天,電氣
          科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
          型號:VTC-2DC2英寸
          產(chǎn)品概述:
          VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

          科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

          型號:VTC-2DC2英寸

          產(chǎn)品概述:

          VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。

          主要參數(shù):

          • 輸入電源:220V AC 50Hz    
          • 輸出電壓:600 VDC 
          • 輸出功率:大500W 
          • 整機功率:1000W(包括真空泵)

          濺射腔體:

          • 采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x250mm H(配置直靶頭)
          • 尺寸:166mm OD x 150mm ID x290mm H(配置帶角度傾斜靶頭) 
          • 密封法蘭:直徑為165mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈

          濺射頭&樣品臺

          • 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸,同時可選配1英寸濺射頭
          • 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調(diào) 
          • 樣品臺可加熱,加熱溫度RT-500℃(RT為室溫) 
          • 安裝有一可手動操作的擋板 
          • 大可制膜的直徑為:2英寸(標配2英寸,如果需要更大尺寸請與我們銷售聯(lián)系)

          真空系統(tǒng)

          • 安裝有KF25真空接口 
          • 數(shù)字真空壓力表(Pa) 
          • 此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含) 
          • 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值,詳情請點擊) 
          • 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值,詳情請點擊) 
          • 可在本公司選購各種真空泵

          進氣:

          • 設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 
          • 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

          靶材

          • 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 
          • 可在本公司選購各種靶材

          薄膜測厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

          產(chǎn)品外形尺寸:

          540mm L x540 mm W x1100mm H

          凈重:70 kg(不包括泵)

          科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

          型號:VTC-2DC2英寸

          質(zhì)量認證:CE認證

          • 使用提示:
            有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 
          • 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 
          • 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
          • 要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面 
          • 超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。 
          • 等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。 
          • 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

          警告:

          • 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。 
          • 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 
          • 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

           

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