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        1. 艾因蒂克科技(上海)有限公司
          初級(jí)會(huì)員 | 第5年

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          當(dāng)前位置:艾因蒂克科技(上海)有限公司>>工業(yè)CT系統(tǒng)>>GE工業(yè)CT系統(tǒng)>> v|tome|x微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測(cè) CT檢測(cè)服務(wù) 工業(yè)CT

          微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測(cè) CT檢測(cè)服務(wù) 工業(yè)CT

          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)v|tome|x

          品       牌其他品牌

          廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

          產(chǎn)品資料查看pdf文檔

          所  在  地上海市

          更新時(shí)間:2023-07-25 15:56:17瀏覽次數(shù):4279次

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          產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 200萬(wàn)-500萬(wàn)
          應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,航天,汽車,電氣
          隨著制造業(yè)日益復(fù)雜,微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測(cè) CT檢測(cè)服務(wù) 工業(yè)CT 等自動(dòng)化成為標(biāo)準(zhǔn),兼顧精度和效率的檢測(cè)呈現(xiàn)的比以往任何時(shí)候都更加重要。GE專注于變革無損檢測(cè)領(lǐng)域中的3D檢測(cè)和尺寸控制,致力于實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、高效的檢測(cè)目標(biāo)。

          微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測(cè) CT檢測(cè)服務(wù) 工業(yè)CT

           

          隨著制造業(yè)日益復(fù)雜,微焦點(diǎn)工業(yè)CT CT檢測(cè) CT檢測(cè)服務(wù) 工業(yè)CT自動(dòng)化成為標(biāo)準(zhǔn),兼顧精度和效率的檢測(cè)呈現(xiàn)的比以往任何時(shí)候都更加重要。GE專注于變革無損檢測(cè)領(lǐng)域中的3D檢測(cè)和尺寸控制,致力于實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、高效的檢測(cè)目標(biāo)。

          通過將工業(yè)CT技術(shù)應(yīng)用于滿足工業(yè)需求,并將其與強(qiáng)大的X射線技術(shù)、自動(dòng)化機(jī)械手、全自動(dòng)軟件和GE  CT技術(shù)相結(jié)合,我們已經(jīng)研發(fā)出一系列高精度CT產(chǎn)品,在保證質(zhì)量的檢測(cè)下,檢測(cè)時(shí)間由幾個(gè)小時(shí)縮短到幾分鐘。

          全新phoenix v|tome|x m 將這項(xiàng)變革向前推進(jìn)了一大步,可以為你提供通用、精確的微焦點(diǎn)CT系統(tǒng),用于無損檢測(cè)、3D尺寸測(cè)量和分析。這種高生產(chǎn)率的系統(tǒng),可以在高速的檢測(cè)速度下,獲得更高的精度,極大優(yōu)化你的實(shí)驗(yàn)、測(cè)試過程,滿足現(xiàn)如今日益增長(zhǎng)的需求。

           

          相同圖像質(zhì)量下,有效節(jié)約掃描時(shí)間

          v|tome|x m是*可以搭載GE突破性的散射線校正技術(shù)、dynam ic41數(shù)字化探測(cè)器 和高通量鎢靶的微焦點(diǎn)工業(yè)CT系統(tǒng),使得掃描速度更快或圖像質(zhì)量更高,并真正革新了檢測(cè)方法。

           

          提供多種配置和可選項(xiàng),幫助您在高度準(zhǔn)確的前提下,提高生產(chǎn)率,例如ruby|plate(紅寶石標(biāo)準(zhǔn)件) 和 true|position(機(jī)械軸精準(zhǔn)定位)可用于提高測(cè)量精度、流程化操作, helix|CT(螺旋CT)可用于提高圖像質(zhì)量,簡(jiǎn)單、高效地提高樣品檢測(cè)率。

           

          1. scatter|correct 技術(shù)

          有效減少散射線偽影,相比同等效果的傳統(tǒng)扇束速度提高近100倍。

          掃描時(shí)間從60分鐘減少至6分鐘

          2. dynamic 41 數(shù)字平板探測(cè)器相同速度下分辨率提高一倍,或與200μm DXR探測(cè)器相同質(zhì)量下,檢測(cè)效率提高一倍。

          掃描時(shí)間從6分鐘減少至3分鐘

          3. high-flux|target高通量靶

          提高微米CT檢測(cè)效率,或者在更小的焦點(diǎn)尺寸下,實(shí)現(xiàn)更高的功率進(jìn)而獲得近乎2倍的圖像質(zhì)量。

          3分鐘減少至1.5分鐘

          4. helix|CT 螺旋CT

          采用螺旋CT提升圖像質(zhì)量,在高效、易操作的前提下,提高檢測(cè)概率。

          5. offset|CT 偏置CT

          在原有基礎(chǔ)上,增加100%的檢測(cè)范圍。

          6. 全自動(dòng)機(jī)器人

          很大程度地提高檢測(cè)速度和準(zhǔn)確性,極大節(jié)約運(yùn)行成本。

          7. phoenix datos|x CT軟件

          圖像采集、數(shù)據(jù)處理、樣品評(píng)估全自動(dòng)化進(jìn)行。

           

           

          微焦點(diǎn)工業(yè)CT主要參數(shù)

           

          phoenix v|tome|x s phoenix v|tome|x m

          射線管類型

          開放式設(shè)計(jì),反射式高功率微焦點(diǎn)X射線源,配置封閉式水冷系統(tǒng)。

          選配投射式高功率納米焦點(diǎn)射線源(開放式設(shè)計(jì))

          大電壓 / 功率

          240 kV/ 320 W

          300 kV/ 500 W.

          240 kV/ 320 W (選配)

          選配納米CT的雙源設(shè)計(jì)®: 180 kV / 20 W 配置鉆石靶的高功率納米焦點(diǎn)射線源 | 高精度氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)| 雙源一鍵式切換系統(tǒng)

          幾何放大倍率 (3D)

          1.46 倍至100 倍; 選配納米射線源后增大至200 倍

          1.3 倍至100 倍; 選配納米射線源后增大至200 倍

          細(xì)節(jié)檢測(cè)能力

          < 1 μm (微米焦點(diǎn)射線源); 0.2 μm (選配納米焦點(diǎn)射線源)

          小體素尺寸

          2 μm(微焦點(diǎn))

          2 μm (微焦點(diǎn)), 1 μm(選配dyn. 41|100)

          <1 μm(選配納米焦點(diǎn)射線源)

          <0.5 μm (納米射線源 + dyn. 41|100)

          測(cè)量精度

          參考VDI 2630聲明精度

          4+L/100μm參考VDI 2630-1.3

          探測(cè)器類型

          (依據(jù)ASTM E2597 標(biāo)

          準(zhǔn))

          溫度穩(wěn)定型GE DXR平板探測(cè)器, 200 μm像素尺寸, 1,000 x 1,000 像素?cái)?shù)量, 200 x 200 mm (8”), 支持2倍虛擬放大

          溫度穩(wěn)定型GE dynamic 41|200平板探測(cè)器, 410 x 410 mm (16” x 16”), 200 μm像素尺寸, 2036 x 2036

          像素?cái)?shù)量 (4 MP), 高動(dòng)態(tài)范圍 > 10000:1

          選配 400 x 400 mm (16”) , 4 MPixel DXR 探測(cè)器

          (無2倍虛擬放大)

          選配GE dynamic 41|100 探測(cè)器, 410 x 410 mm (16” x 16”), 100 μm 像素尺寸, 4048 x 4048 像素?cái)?shù)量

          (16 MP),分辨率提高2倍

          機(jī)械系統(tǒng)

          5軸高精度機(jī)械系統(tǒng),

          *設(shè)計(jì)優(yōu)化穩(wěn)定性

          大理石基座的4軸機(jī)械系統(tǒng)

          焦距

          800 mm (8”探測(cè)器) | 930 mm (16” 探測(cè)器)

          800 mm

          大樣品直徑 x 高度

          大3D掃描尺寸 260 mm Ø x 420 mm, 大

          400 mm Ø 選配offset|CT和 8” 探測(cè)器

          360 mm x 600 mm; 限制移動(dòng)范圍500 x 600 mm ,

          大3D 掃描范圍 420 mm Ø x 400 mm

          大樣品重量

          10 kg (22 lbs.)

          50 kg (110 lbs.), 高精度CT:20 kg (44 lbs.)

          大物距

          545 mm(微焦點(diǎn))

          600 mm (微焦點(diǎn))

          系統(tǒng)尺寸 W x H x D

          2,170 mm x 1,690 mm x 1,500 mm (85.4” x 66.5” 59” )

          2,620 mm x 2,060 mm x 1,570 mm (103” x 81” x

          62”); D 2,980 mm (117.3”)包含控制面板和發(fā)生器

          系統(tǒng)重量

          約2,900 kg /6,400 lbs. (不含附件)

          約7,960 kg /17,550 lbs. (不含附件)

          溫度穩(wěn)定性

          射線源冷卻系統(tǒng)| 溫度穩(wěn)定型探測(cè)器

          射線源冷卻系統(tǒng)|溫度穩(wěn)定型探測(cè)器|溫度穩(wěn)定型鉛

          選配scatter|correct 硬件及軟件模塊 (可升級(jí))

           

          小化散射線偽影,達(dá)到線陣列同等水平圖像質(zhì)量;大掃描直徑: 260 mm, 幾何放大倍率1,51

          倍 - 100倍

          選配高通量靶

          檢測(cè)效率提高2倍或檢測(cè)效果提高2倍; 射線源功率為100 W

          選配2D 檢測(cè)模塊

          配置傾斜軸,檢測(cè)樣品重量10 kg (22 lbs.) | 2D 檢測(cè)軟件+ datos|x CT軟件

          選配測(cè)量版本 (可升級(jí))

           

          2 標(biāo)準(zhǔn)件

          可選多標(biāo)準(zhǔn)件

           

           

          選配螺旋CT & 擴(kuò)展CT

          采用高級(jí)掃描模式,提升掃描范圍和圖像質(zhì)量,螺旋CT:用于長(zhǎng)樣品掃描,并有效減少偽影;擴(kuò)展CT:可   以掃描更大尺寸的樣品,或者獲得更高的分辨率

          選配 click&measure|CT

          用于全自動(dòng)數(shù)據(jù)處理

          已包含

          選配 production|edition

           

          根據(jù)需求配置全自動(dòng)機(jī)器人

          軟件

          phoenix datos|x 3D圖像采集和數(shù)據(jù)重建軟件,擁有不同的3D軟件包,用于尺寸測(cè)量、失效分析和結(jié)構(gòu)檢

          測(cè)。

          輻射安全防護(hù)

          全封閉式自屏蔽防護(hù)鉛房,類型滿足德國(guó)RöV,適用于法國(guó)NFC 74 100 和美國(guó)21 CFR ,當(dāng)?shù)胤ㄒ?guī)要求的其他許可。

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