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分析儀器: 固定源現(xiàn)場采樣與分析真空爐試驗(yàn)機(jī)系列調(diào)節(jié)閥系統(tǒng) 實(shí)驗(yàn)試驗(yàn)臺顯微鏡自動控制試驗(yàn)臺試驗(yàn)監(jiān)控系統(tǒng) 動作測試儀熱流傳感器校準(zhǔn)儀膨脹試驗(yàn)臺疲勞試驗(yàn)機(jī)臺高低溫試驗(yàn)機(jī) 密封性試驗(yàn)臺循環(huán)試驗(yàn)臺脈沖綜合試驗(yàn)機(jī) 爆破試驗(yàn)臺阻力試驗(yàn)臺電化學(xué)儀器全套

電力測試儀器全套解決方案: 互感器特性測試儀器類高壓開關(guān)測試儀器類電量記錄分析儀器類高壓試驗(yàn)設(shè)備類絕緣油測試儀器類其他新品儀器類

半導(dǎo)體測試儀器解決方案: 材料分析儀器半導(dǎo)體前道儀器設(shè)備半導(dǎo)體后道儀器設(shè)備半導(dǎo)體檢測儀器設(shè)備

等離子體表面處理系統(tǒng): 等離子清洗機(jī)/去膠機(jī) 等離子清洗機(jī)定制等離子清洗機(jī)配件

芯片測試儀器

靜態(tài)參數(shù)測試系統(tǒng)

試驗(yàn)箱系列: 試驗(yàn)箱

Hyrel 3D打印機(jī)

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產(chǎn)品簡介詳細(xì)介紹

Pluto-MD等離子去膠機(jī)
產(chǎn)品介紹：
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進(jìn)行精細(xì)控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光

Pluto-MD等離子去膠機(jī)

產(chǎn)品介紹：

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進(jìn)行精細(xì)控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

產(chǎn)品性能：

經(jīng)過真空檢漏316不銹鋼腔體，具備更好密封性能和保壓能力

5L腔體，雙層電極，離子密度可控

13.5EMHz射頻等離子源，兼容物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，覆蓋全部樣品種類

創(chuàng)新可調(diào)電極，可以調(diào)整有效處理面積中等離子體的能量密度

標(biāo)配兩路氣體，適應(yīng)更多用戶需求。

電容觸摸屏，全數(shù)字控制。

全手動控制和預(yù)設(shè)工藝參數(shù)自動運(yùn)行