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用于工業(yè)和制藥行業(yè)超純水回路的*有效消毒方式MENBREL MKIII 是點(diǎn)點(diǎn)解式臭氧發(fā)生器的*新一代產(chǎn)品，采用固體聚合物電介質(zhì)和**的電子技術(shù)制造臭氧
奧宗尼亞工業(yè)用電解式臭氧發(fā)生器應(yīng)用
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
奧宗尼亞工業(yè)用電解式臭氧發(fā)生器半導(dǎo)體
純水，超純水
奧宗尼亞工業(yè)用電解式臭氧發(fā)生器 臭氧技術(shù)：
MEMBREL 點(diǎn)解工藝是利用水，而非氣態(tài)空氣或氧氣制備臭氧的*原水取自超純水回路，進(jìn)入反應(yīng)單元的陽(yáng)極室，在陽(yáng)極和電化穩(wěn)定膜之間的接觸表面被分成兩種成分
氫質(zhì)子進(jìn)入膜，在陰極一側(cè)被壓縮為氫氣后釋放到大氣中，而在陽(yáng)極一側(cè)的自由氧則轉(zhuǎn)化為臭氧，很快為進(jìn)水所吸收
離開(kāi)反應(yīng)單元的水/氧氣/臭氧混合物重新被注入在回路內(nèi)的循環(huán)水體內(nèi)
工作原理
MEMBREL MKIII 裝置室超純水消毒的有效手段，因?yàn)槌粞趵么幚硭苽?，整個(gè)過(guò)程無(wú)污染生產(chǎn)，無(wú)需使用化學(xué)制品或其他額外的處理手段
通過(guò)投加0.1-0.2mg/l 的臭氧將菌群的數(shù)量和生物膜形成降低至*低程度，若工藝中不在需要臭氧，**處純水使用點(diǎn)前安裝有紫外線輻射臭氧破壞單元
