GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu)，還可以用于將小面...
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過(guò)簡(jiǎn)單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門(mén)為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開(kāi)發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線 參考價(jià)：面議
GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微...
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備。可實(shí)現(xiàn)4英寸...
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、...
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備 參考價(jià)：面議
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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