目錄:青島天仁微納科技有限責(zé)任公司>>納米壓印設(shè)備>> GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
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更新時(shí)間：2024-08-22 16:33:20瀏覽次數(shù)：516評(píng)價(jià)
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GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測(cè)、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量，達(dá)到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動(dòng)工作模具復(fù)制、工作模具自動(dòng)更換、自動(dòng)預(yù)處理和壓印、自動(dòng)脫模，整個(gè)工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。
GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn)。
●全自動(dòng)200/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線
●確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，降低大面積納米壓印模具使用成本
●全自動(dòng)預(yù)處理步驟，包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠、烘烤、冷卻
●自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模，工藝過程在局部潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行，以保證壓印質(zhì)量
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料
●產(chǎn)能可大于100片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)
●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | 200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自動(dòng)上下片 |
| 晶圓預(yù)對(duì)位 | 光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位 |
| 納米壓印技術(shù) | CLIV技術(shù)，適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓 |
| 納米壓印預(yù)處理工藝步驟 | CLIV技術(shù)，適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印、清洗（毛刷、二流體、兆聲波）、旋涂勻膠、加熱烘烤、冷卻、plasma表面處理 |
| 壓印精度 | 優(yōu)于10納米* |
| 結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>200mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 | 標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10* |
| 自動(dòng)壓印 | 支持 |
| 自動(dòng)脫模 | 支持 |
| 自動(dòng)工作模具復(fù)制 | 支持 |
| 自動(dòng)工作模具更換 | 支持 |
| 模具基底對(duì)位功能 | 自動(dòng)對(duì)位（選配） |
| Post Cure | 選配 |
| AOI在線檢測(cè) | 選配 |
| 產(chǎn)能 | 可大于100片每小時(shí)* |
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