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        1. 上海攸亦光電科技有限公司
          中級會員 | 第4年

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          Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

          參  考  價面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準

          產(chǎn)品型號

          品       牌Eksma

          廠商性質(zhì)代理商

          所  在  地上海市

          更新時間:2024-04-23 11:41:02瀏覽次數(shù):1012次

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          價格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
          組件類別 光學(xué)元件
          Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
          具有ø22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機械組成,易于設(shè)置。波片的電動旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。

          Eksma 飛秒和ND:YAG激光脈沖電動可變衰減器990-0072M

          Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

          具有?22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機械組成,易于設(shè)置。波片的電動旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。

          產(chǎn)品介紹

          ?將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強度比,以68°角分開

          ?大動態(tài)范圍

          ?透射光束偏移?1mm

          ?高光學(xué)損傷閾值

          Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

          該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應(yīng)用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

          可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

          840-0056-12運動學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調(diào)整為±4.5°,并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上。

          距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)??梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?,以將標準桿和桿架更改為更高的高度。


          EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

          EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

          公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

          該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

          產(chǎn)品型號

          飛秒激光脈沖

          型號

          波長

          損壞閾值

          配置

          990-0072-343M

          343 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-343M+CP

          343 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-400M

          400 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-400M+CP

          400 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-515M

          515 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-515M+CP

          515 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-800M

          800 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-800M+CP

          800 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-800BM

          780-820 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-800BM+CP

          780-820 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-1030M

          1030 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-1030M+CP

          1030 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-1030BM

          1010-1050 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-1030BM+CP

          1010-1050 nm

          >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          大功率激光應(yīng)用

          型號

          波長

          損壞閾值

          配置

          990-0072-266HM

          266 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-266HM+CP

          266 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-343HM

          343 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-343HM+CP

          343 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-400HM

          400 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-400HM+CP

          400 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-515HM

          515 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-515HM+CP

          515 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-800HM

          800 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-800HM+CP

          800 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-800HBM

          780-820 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-800HBM+CP

          780-820 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-1030HM

          1030 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-1030HM+CP

          1030 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply

          990-0072-1030HBM

          1010-1050 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          without controller & power supply

          990-0072-1030HBM+CP

          1010-1050 nm

          >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

          with controller & power supply


          旋轉(zhuǎn)分辨率:全步模式

          在1/8步進模式下


          0.6 arcmin
          4.5 arcsec

          較高轉(zhuǎn)速

          50 deg/s

          適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

          孔徑

          22 mm

          損害閾值

          >5 J/cm2
          pulsed at 1064 nm, typical

          偏振對比

          >1:200

          飛秒應(yīng)用

          孔徑

          22 mm

          損害閾值

          大功率激光應(yīng)用:

          > 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

          > 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

          時間色散

          對于100 fs Ti:藍寶石激光脈沖,t<4 fs

          偏振對比

          >1:200

          推薦設(shè)置

          控制器

          980-1045

          電源

          PS12-2.5-4

          上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,其代碼結(jié)尾為“ + CP"。

          EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

          EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

          公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

          該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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