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Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡500-530 NM-2
Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡500-530 NM-2
具有500-530 nm范圍的減反射鍍膜的薄透鏡。透鏡可以提供電子束(+ AR515)或IBS(+ AR515HT)鍍膜。
產(chǎn)品介紹
?防反射鍍膜的AR / AR @ 500-530 nm
?非常?。哼吘壓穸葟?.5到1.9mm不等
?中心厚度從1到3mm不等
?平凸或平凹類型
?也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜
Femtoline Thin AR在500-530 nm透鏡上鍍膜,適用于飛秒Ti:Sapphire激光脈沖的應用。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti:藍寶石激光脈沖的低群延遲色散。
產(chǎn)品型號
平凸透鏡(?25.4 mm)
型號 | 材料 | 類型 | 直徑 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 |
110-1205ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 4.9 mm | 1.0 mm | 50 mm | R<0.4% |
110-1205ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 4.9 mm | 1.0 mm | 50 mm | R<0.1% |
110-1209ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 3.0 mm | 0.5 mm | 75 mm | R<0.4% |
110-1209ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 3.0 mm | 0.5 mm | 75 mm | R<0.1% |
110-1211ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.5 mm | 0.7 mm | 100 mm | R<0.4% |
110-1211ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.5 mm | 0.7 mm | 100 mm | R<0.1% |
110-1216ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 0.6 mm | 125 mm | R<0.4% |
110-1216ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 0.6 mm | 125 mm | R<0.1% |
110-1217ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 0.8 mm | 150 mm | R<0.4% |
110-1217ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 0.8 mm | 150 mm | R<0.1% |
110-1219ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.1 mm | 200 mm | R<0.4% |
110-1219ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.1 mm | 200 mm | R<0.1% |
110-1223ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.4 mm | 300 mm | R<0.4% |
110-1223ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.4 mm | 300 mm | R<0.1% |
110-1225ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.5 mm | 350 mm | R<0.4% |
110-1225ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.5 mm | 350 mm | R<0.1% |
110-1227ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 400 mm | R<0.4% |
110-1227ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 400 mm | R<0.1% |
110-1231ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 450 mm | R<0.4% |
110-1231ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 450 mm | R<0.1% |
110-1233ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 500 mm | R<0.4% |
110-1233ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 2.0 mm | 1.6 mm | 500 mm | R<0.1% |
110-1245ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.3 mm | 1000 mm | R<0.4% |
110-1245ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.3 mm | 1000 mm | R<0.1% |
110-1255ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.4 mm | 1.3 mm | 1500 mm | R<0.4% |
110-1255ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.4 mm | 1.3 mm | 1500 mm | R<0.1% |
110-1265ET+AR515 | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.4 mm | 1.3 mm | 2000 mm | R<0.4% |
110-1265ET+AR515HT | UVFS | pl/cx | 25.4 mm | 1.4 mm | 1.3 mm | 2000 mm | R<0.1% |
材料 | UVFS | |||||||||
表面質量 | 40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) | |||||||||
通光孔徑 | 90% of the diameter | |||||||||
直徑公差 | +0.00, -0.12 mm | |||||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||||
表面不規(guī)則 | λ/8 | |||||||||
同心度 | 3 arcmin | |||||||||
近軸焦距 | ±2% @ 800 nm |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
損壞閾值 | 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,515 nm典型 |
鍍膜表面平整度 | 通光孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0度 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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