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平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）
制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm）

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

75l/mm @10.6μm

100l/mm @10.6μm

150l/mm @10.6μm

300l/mm @300nm

300l/mm @500nm

300l/mm @1000nm

300l/mm @3.5μm

450l/mm @3.1μm

600l/mm @250nm

600l/mm @300nm

600l/mm @400nm

600l/mm @500nm

600l/mm @750nm

600l/mm @1000nm

600l/mm @1250nm

600l/mm @1600nm

1200l/mm @250nm

1200l/mm @300nm

1200l/mm @400nm

1200l/mm @500nm

1200l/mm @750nm

1200l/mm @1000nm

1800l/mm @500nm

特征

材料：	浮法玻璃
表面光潔度：	60-400
尺寸誤cha：	±0.5 mm
厚度公cha:	±0.5mm
效率:	60%~80% @閃耀波長
有效孔徑:	90%
損傷閾值:	350mJ/cm2@200ns脈沖激光 40W/cm2（CW）連續(xù)激光

產(chǎn)品編號	產(chǎn)品名稱	尺寸	刻線數(shù)	閃耀波長	閃耀角
378521	刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	300Lines/mm	300nm	2°34'
378522	刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	300Lines/mm	500nm	4°18
378523	刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	300Lines/mm	1000nm	8°36'
378531	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	300nm	5°9'
378532	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	400nm	6°53'
378543	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	500nm	8°37'
378544	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	750nm	13°0'
378545	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	1000nm	17°27'
378546	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	1250nm	22°1'
378547	刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	600Lines/mm	1600nm	28°41'
378554	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	250nm	8°37
378555	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	300nm	10°22'
378556	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	400nm	13°53'
378565	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	500nm	17°27'
378566	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	750nm	26°44'
378567	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1200Lines/mm	1000nm	36°52'
378568	刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃	50x50x9.5mm	1800Lines/mm	500nm	26°44'

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進行刻劃?？叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜?？虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整，可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試?？虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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