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價(jià)格區(qū)間 | 2萬-5萬 | 控溫范圍 | Rt+3-60℃℃ |
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容量規(guī)格 | 50升 | 溫度均勻性 | ±0.3(@37)℃ |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品,化工,制藥,綜合 |
CYSQ-50-III 低高氧細(xì)胞惰性氣體三氣培養(yǎng)箱
主要特征:
1.CO2氣體濃度檢測采用IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好,且使用壽命長?! ?/span>
2. O2氣體濃度檢測采用電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長,能充分滿足用戶需要?! ?/span>
3.溫度檢測全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個面的套溫和一個面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高?! ?/span>
4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。
5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性?!?/span>
6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性?! ?/span>
7.箱門打開時(shí),電磁閥自動關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染?! ?/span>
8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響?! ?/span>
9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確?! ?/span>
10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過預(yù)置溫度時(shí),可自動切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過預(yù)置值。11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔。
12.滅菌系統(tǒng): 紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。
CYSQ-50-III 低高氧細(xì)胞惰性氣體三氣培養(yǎng)箱
三氣培養(yǎng)箱的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
大屏真彩觸摸屏電腦控制型三氣培養(yǎng)箱,能準(zhǔn)確直觀地控制培養(yǎng)箱溫度和氣體濃度,以解決現(xiàn)有技術(shù)中無法實(shí)現(xiàn)人機(jī)互動和無法提供清晰的數(shù)據(jù)圖像顯示及參數(shù)配置界面的技術(shù)問題,具有安全可靠、簡潔直觀、操作便捷的特點(diǎn)。
采用氣套式結(jié)構(gòu),工作室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼板制作并設(shè)有風(fēng)道,裝有風(fēng)機(jī)形成強(qiáng)制對流,提高了箱內(nèi)溫度均勻性co2,O2濃度的均衡性。
箱門打開時(shí),自動關(guān)閉風(fēng)機(jī)(關(guān)閉CO2、氮?dú)膺M(jìn)氣閥)并停止加熱,減少空氣的進(jìn)入而造成的污染。
溫度控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析及智能PID控制,精度高、抗干擾能力強(qiáng),并采用三探頭分別控制箱溫及門溫,使工作室溫度準(zhǔn)確度高波動小。
輕觸式調(diào)節(jié)開關(guān),輕便靈活,顯示及設(shè)動的參數(shù)均采用數(shù)字顯示各工作狀態(tài)均有LED指示
具有超溫?cái)鄽獾榷嘀斜Wo(hù)功能,確保設(shè)備安全運(yùn)行。
采用無菌氣體過濾裝置和紫外線滅菌燈,以減少污染。
自然蒸發(fā)加濕,使工作室保持較好的溫度。
CO2檢查采用進(jìn)口的紅外探頭,確保測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,工作室內(nèi)CO2濃度可在0~20%范圍內(nèi)任意設(shè)定,其控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析智能PID控制,并有超濃度、濃度上升過慢及斷氣報(bào)警,02檢測采用進(jìn)口電化學(xué)探頭,確保測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,室內(nèi)O2濃度可在1~95%范圍內(nèi)任意設(shè)定,其控制采用微機(jī)數(shù)據(jù)分析及智能PID控制,并設(shè)有超濃度、濃度上升過慢
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