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          目錄:杭州川恒實(shí)驗(yàn)儀器有限公司>>低溫恒溫槽系列>>低溫恒溫槽>> 低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

          低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋
          • 低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋
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          參考價 面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          參考價 面議
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 品牌 其他品牌
          • 型號
          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
          • 所在地 杭州市
          屬性

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          更新時間:2023-11-11 19:23:45瀏覽次數(shù):1052評價

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          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
          水浴槽容積 10L 溫度范圍 -5-100℃
          溫度穩(wěn)定性 0.05℃ 溫控功能 制冷/加熱型
          循環(huán)功能 內(nèi)外循環(huán) 儀器種類 恒溫浴槽
          應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合
          低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋,臥式低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源, 可在機(jī)內(nèi)水槽進(jìn)行恒溫實(shí)驗(yàn),或通過軟管與其他設(shè)備相連,作為恒溫源配套使用。適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等研究部門,高等院校,企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門。

          低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術(shù)參數(shù):

          型號

          溫度范圍(℃)

          溫度波動度(℃)

          工作槽容積(mm3)

          工作槽開口(mm2)

          槽深度(mm)

          循環(huán)泵流量(L/min)

          排水

          CHDCW-0506

          -5~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-0510

          -5~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-1006

          -10~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-1008

          -10~100

          0.02~0.05

          280×250×140

          235×180

          140

          6

          CHDCW-1010

          -10~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-1015

          -10~100

          0.02~0.05

          280×250×220

          235×180

          220

          6

          CHDCW-2006

          -20~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-2008

          -20~100

          0.02~0.05

          280×250×140

          235×180

          140

          6

          CHDCW-2010

          -20~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-2015

          -20~100

          0.02~0.05

          280×250×220

          235×180

          200

          6


          低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

          低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域:

          1.材料領(lǐng)域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

          2.物化領(lǐng)域:激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

          3. 生化領(lǐng)域:旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等。

          4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。

          5.醫(yī)療領(lǐng)域:超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、降溫毯等。

          6.對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。


          主要用途:

          1、對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進(jìn)行低溫冷卻。

          2、對雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          3、對分光光度計(jì)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          4、對超聲波破碎的試料進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          5、對激光加工機(jī)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          6、對蝕刻裝置的電機(jī)部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          8、對工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          9、對電泳儀、粘度計(jì)、醫(yī)用冷帽、降溫毯進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

          10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴(kuò)散泵進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。


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