鏡片清洗超純水設(shè)備光學(xué)鏡片清洗主要包括鏡片、眼鏡框、玻璃器皿等清洗，為了保證清洗效果，不會有雜質(zhì)殘留，需要使用高標準的清洗用水，光學(xué)鏡片清洗用超純水設(shè)備是一套于該行業(yè)清洗的設(shè)備，采用*的制水技術(shù)，保證出水水質(zhì)符合光學(xué)鏡片清洗用水標準。

光學(xué)鏡片清洗超純水要求：

加工中，鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結(jié)劑、保護性材料的清洗；鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗；鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。傳統(tǒng)的清洗方法是利用擦拭材料配合化學(xué)試劑采取浸泡、擦拭等手段進行手工清擦。這種方法費時費力，清潔度差，顯然不適應(yīng)現(xiàn)代規(guī)?；墓鈱W(xué)冷加工行業(yè)。這迫使人們尋找一種機械化的清洗手段來代替。于是清洗技術(shù)逐步進入光學(xué)冷加工行業(yè)并大顯身手，進一步推動了光學(xué)冷加工業(yè)的發(fā)展。

清洗技術(shù)的基本原理，大致可以認為是利用產(chǎn)生的巨大作用力，在洗滌介質(zhì)的配合下，促使物質(zhì)發(fā)生一系列物理、化學(xué)變化以達到清洗目的的方法。清洗就是在液體清洗介質(zhì)中，利用產(chǎn)生的巨大能量，通過物理、化學(xué)的綜合作用而達到洗凈目的的一種洗凈手段。

鏡片清洗超純水設(shè)備工藝：

1.反滲透+混床制取鏡片清洗用超純水

反滲透＋混床超純水系統(tǒng)的產(chǎn)水電阻率達到1-15兆姆25℃,采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃，應(yīng)用領(lǐng)域十分廣泛。反滲透加混床超純水系統(tǒng)是利用反滲透系統(tǒng)除去水中95-97%以上的離子雜質(zhì),再用后級混床精處理,除去水中剩余離子,產(chǎn)水水質(zhì)電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的結(jié)合,有著設(shè)備投資省,運行成本低,管理維護方便等特點。

2.反滲透+EDI制取鏡片清洗用超純水

采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸此ㄏ洌谩鷻C械過濾器→活性炭過濾器→軟化器（根據(jù)水的硬度來選用）→精密過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

這種方法用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。

光學(xué)鏡片清洗用超純水設(shè)備設(shè)計優(yōu)勢：

(1)系統(tǒng)采用新水處理技術(shù)雙級RO+EDI+混床模塊化設(shè)計，嚴格按新技術(shù)設(shè)計標準，確保水質(zhì)穩(wěn)定，長效運行。

(2)通過專業(yè)技術(shù)設(shè)計，確保系統(tǒng)短時停機及長時間停機時水質(zhì)保持穩(wěn)定。

(3)通過專業(yè)技術(shù)保證終端出水恒壓、水質(zhì)穩(wěn)定。

(4)通過完善的技術(shù)，大限度的提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行成本。

(5)采用ESPA2超低壓膜，運行穩(wěn)定，能耗低。

(6)采用PH調(diào)節(jié)系統(tǒng)以確保水溫下降或原水PH值偏低時EDI出水水質(zhì)。