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離子研磨儀的工作原理
閱讀：1372 發(fā)布時(shí)間：2023-2-28
由于機(jī)械加工導(dǎo)致的樣品表層邊緣遭到破壞且所積累的殘余應(yīng)力無法得到釋放，最終造成無法獲得樣品表層納米梯度強(qiáng)化層真實(shí)精準(zhǔn)的原位力學(xué)性能。離子研磨系統(tǒng)可以無應(yīng)力的去除樣品表面層，加工出光滑的鏡面。兼容平面和截面兩種加工方式，為相關(guān)檢測(cè)的樣品制備提供了有效的解決方案。
離子研磨儀的原理：
離子研磨法是利用通過電場(chǎng)加速過的離子轟擊樣品表面，在樣品表面產(chǎn)生濺射效應(yīng)，由此制備尺度為毫米級(jí)別的平滑表面的研磨方法。氬氣屬于惰性氣體，基本不會(huì)和樣品發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，因此通常我們采用Ar作為離子源轟擊樣品。SEM樣品常用到的離子研磨法有截面研磨和平面研磨兩種。
日立IM4000Plus離子研磨儀利用氬離子對(duì)樣品即可以進(jìn)行平面研磨，也可以進(jìn)行截面切割，是對(duì)樣品進(jìn)行無應(yīng)力加工的理想工具，不會(huì)產(chǎn)生傳統(tǒng)的切割或機(jī)械拋光帶來的變形錯(cuò)位、機(jī)械應(yīng)力或劃痕污染等對(duì)樣品的形貌觀察和結(jié)構(gòu)分析帶來的不利影響，通過制冷功能可以對(duì)受熱易損傷的樣品進(jìn)行加工。
特點(diǎn)：
1.即可進(jìn)行截面切割，也可進(jìn)行平面研磨
2.加工效率更高，截面約500μm/h
3.程序控制間歇式加工
4.通過制冷功能可以對(duì)受熱易損傷的樣品進(jìn)行加工