目錄:蘇州華維納納米科技有限公司>>LDW-P納米激光直寫系統(tǒng)>> HWN-P1500-200新型納米激光直寫系統(tǒng)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長 | 405?nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100?nm | 激光功率 | 120mW?至300?mW（可選） |
| 刻寫范圍 | 200umx200um |
HWN-P1500-200新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團(tuán)隊(duì)和加工平臺設(shè)計(jì)的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺的移動(dòng)范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護(hù)簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設(shè)計(jì)和制造。
新概念技術(shù)：華維納LDW-P系列通過激光與材料的非線性相互作用，成功突破了光學(xué)衍射極限的限制，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達(dá)50nm。
多受體材料：華維納LDW-P系列通過高精度的功率調(diào)制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜、無機(jī)相變材料、光刻膠等多種受體材料。
可靠易用性：華維納LDW-P系列擁有強(qiáng)大的軟件功能，支持標(biāo)量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據(jù)不同的刻寫場景而選擇。另外，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設(shè)計(jì)、刻寫、分析等步驟， 大大提高了工作效率。
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
2
化工儀器網(wǎng)