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產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	電子,電氣

產(chǎn)品名稱(chēng)：Obducat納米壓印光刻工具EITRE 3

產(chǎn)品型號(hào)：EITRE 3

產(chǎn)品介紹

易于使用的半自動(dòng)化經(jīng)濟(jì)型工具系列，適用于尺寸（max）為 8“ x 8" 的基底，可在微米和納米尺度上進(jìn)行圖案復(fù)制。EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。

性能特點(diǎn)

l EITRE 納米壓印光刻（NIL）工具提供了一種半自動(dòng)、經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的光刻解決方案，可以在微米和納米范圍內(nèi)復(fù)制圖案。

l EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。

l 易于使用的半自動(dòng)工具，界面友好。

l 嵌入式 SoftPress 技術(shù)可確保對(duì)整個(gè)壓印區(qū)域的殘余層厚度進(jìn)行控制，從而實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的圖案轉(zhuǎn)移和簡(jiǎn)單的下游工藝開(kāi)發(fā)。

l 工具的靈活性允許使用多種壓印工藝，如熱壓印、熱NIL、UV NIL 和 Obducat 同步熱壓和 UV (STU) 工藝。

l EITRE 工具適用于固態(tài)照明、微型光學(xué)和光子元件和生命科學(xué)設(shè)備、片上實(shí)驗(yàn)室、MEMS/NEMS 和半導(dǎo)體等應(yīng)用領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)。

l 全面積的壓印。

l 紫外線模塊可配置為 50-400 mW/cm² 的基板級(jí)強(qiáng)度。

l 根據(jù)歐洲安全法規(guī)和 CE 標(biāo)志設(shè)計(jì)。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地：瑞典

基底尺寸：≤ 78 mm ?

壓印壓力（min）：6-8 bar（取決于 CA 的入口壓力）

壓印壓力（max）：70 bar

壓印溫度（min）：環(huán)境溫度

壓印溫度（max）：250°C（使用紫外模塊時(shí)為 200°C）

壓印溫度設(shè)置：精度± 2 度

無(wú)塵室適用性：Class 100

室溫：18-32°C

相對(duì)濕度：40 - 65%

電源：220-240 VAC，單相，接地，預(yù)熔絲至 16A，50/60 Hz，3 kVA

壓縮空氣：6 - 8 bar，30 l / min

排氣流量：1000 - 2000 l / min

尺寸（長(zhǎng) x 寬 x 高）：80 x 60 x 180 厘米

重量：約250 千克

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