目錄:北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司>>高真空鍍膜機>> VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產(chǎn)品簡介： VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、 導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。 VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜， 兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 與同類設(shè)備相比， 其不僅應(yīng)用廣泛， 且具有體積小便于操 作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備， 特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） | |
2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 | |
3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度 99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶 ?6mm 雙卡套 | |
接頭）及減壓閥 |
4、工作臺： 尺寸 1500mm×600mm×700mm ，承重 200kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要 | |||
主要特點 | 1 、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換）。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、整機模塊化設(shè)計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。 | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源電壓： 220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度： < E-6mbar （配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到 4、工作溫度： RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） | ||
5、靶槍數(shù)量： 3 個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7 、靶材尺寸： ?2″ ，厚度 0.1mm-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率： 500W （可選） 9、射頻濺射功率： 300W/500W （可選） 10、載樣臺： ?140mm 11、載樣臺轉(zhuǎn)速： 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào) 12、保護(hù)氣體： Ar 、N2 等惰性氣體 13、進(jìn)氣氣路： 質(zhì)量流量計控制 2 路進(jìn)氣， 1 個流量為 100 SCCM ，1 個流量為 200 SCCM | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸： 500mm ×560mm×660mm ，整機尺寸： 1300mm ×660mm×1200mm；重量： 160kg | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 2 套 |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1 套 | |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1 套 | |
4 | 分子泵（德國進(jìn)口） | 1 臺 | |
5 | 冷水機 | 1 臺 | |
6 | 冷卻水管（?6mm） | 4 根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | ||
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