目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>薄膜材料生長成套設(shè)備>> 開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV
產(chǎn)品簡介： 開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV 是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道 浮子混氣系統(tǒng)組成， 可為 CVD 或擴散實驗提供 1-3 種的混合氣體， 真空度可達 10-2torr。
產(chǎn)品型號 | 開啟式單溫區(qū)低真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-F3LV |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺： 尺寸 600mm×600mm×700mm ，承重 150kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
主要特點 | 1、雙層殼體，配有循環(huán)風(fēng)冷系統(tǒng)，殼體溫度<60℃。 2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。 3 、采用 PID 控制器 ，可以設(shè)置 30 段升降溫程序。 4、設(shè)有超溫及斷偶報警功能。 |
5 、已通過 CE 認證。 | |
技術(shù)參數(shù) | 1 、電源： AC 220V 50Hz/60Hz 2.5KW 2、石英管： 外徑 ?80mm ，內(nèi)徑 ?75mm ，長 1000mm |
3、加熱元件： 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 4、加熱區(qū)域： 440mm | |
5、恒溫區(qū)域： 150mm 6 、工作溫度： 1200℃ ，連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率： 20℃/min 8、控溫精度：± 1℃ 9、真空度： 5.5×10-3torr （機械泵）， 10-4torr （分子泵） 10、泄漏率： <5mtorr/min 11、浮子流量計： 3 個； 10ml/min-100ml/min ，16ml/min-160ml/min ，25ml/min-250ml/min 12、壓力表： 4 個 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸： 管式爐 550mm×380mm×520mm ，混氣系統(tǒng) 600mm×600mm×597mm；重量： 60kg |
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