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產(chǎn)品簡介： 4 路質(zhì)子混氣管式 PECVD 系統(tǒng)是為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活 性來促進(jìn)反應(yīng)，環(huán)境溫度在 100℃-300℃，但反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化，從 而大大提高了反應(yīng)物的活性， 這些具有反應(yīng)活性的中性物質(zhì)很容易被吸附到較次溫度的基本表面上， 發(fā)生 非平衡的化學(xué)反應(yīng)沉積生成薄膜，因此這種 CVD 稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積法（PECVD）。
產(chǎn)品型號 | 4 路質(zhì)子混氣管式 PECVD 系統(tǒng) |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺： 尺寸 1600mm×600mm×700mm ，,承重 150kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
主要特點 | 1、內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀 器的使用壽命。 2 、輝光放電等離子體中電子密度可達(dá) 109cm3-1012cm3。 3 、電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出 10-100 倍。 4、配有高精度數(shù)字顯示質(zhì)量流量計，可準(zhǔn)確地控制氣體流量。 |
5、一個氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥。 6、不銹鋼針閥安裝在左側(cè)部分，可手動控制混合氣體的輸入。 |
7 、已通過 CE 認(rèn)證。 | |
技術(shù)參數(shù) | 管式爐 |
1、電源： AC220V 4KW 2、爐管： ?50mm ，?60mm ，?80mm 都可用 3、溫度控制器： 30 段高精度數(shù)字可編程溫度控制器 4、加熱區(qū)： 440mm 5、恒溫區(qū)： 150mm | |
等離子射頻電源 1、輸入功率： AC220V 1KW 2、輸出功率： 50W-500W 可調(diào)，±1% 3 、RF 頻率： 13.56MHz | |
4、噪聲：≤55DB 5、冷卻：風(fēng)冷 | |
真空泵和質(zhì)量流量計 1、真空度： 10-3torr 2、波紋管： KF25 系列 3、質(zhì)量流量計： 0-200 ，誤差 0.02%，進(jìn)氣口采用國際標(biāo)準(zhǔn)雙卡頭 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸： 管式爐 550mm×380mm×520mm ，供氣及真空系統(tǒng) 600mm×600mm×1250mm 重量： 120kg |
可選配件 | 防腐型數(shù)字式真空顯示計 |
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