Batch式高真空蒸發(fā)設備 EI 系列是一種專門用于在基板上形成金屬膜或氧化物膜的設備。該設備具有以下顯著特點和優(yōu)勢：

高真空環(huán)境：EI 系列設備能夠提供高真空環(huán)境，確保蒸發(fā)過程中的膜層質(zhì)量。高真空條件下，雜質(zhì)含量減少，膜層純凈度更高，適用于高精度的研究開發(fā)以及少量生產(chǎn)。

多種材料蒸發(fā)：該設備可以蒸發(fā)多種材料，包括金屬、ITO（銦錫氧化物）以及二氧化硅等。這使得EI系列設備在不同應用領域中具有廣泛的適用性，從電子元件到光學元件的制造，都可以輕松應對。

集中控制：通過操作面板進行集中控制，實現(xiàn)了抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動化操作。操作界面友好，易于設置和調(diào)整工藝參數(shù)，提高了工作效率和操作的便捷性。

適用于研究開發(fā)及少量生產(chǎn)：EI 系列設備特別適合于實驗室研究開發(fā)和少量生產(chǎn)需求。其靈活的工藝參數(shù)調(diào)整能力和高質(zhì)量的成膜效果，使其在新材料研究和工藝開發(fā)中成為理想選擇。

蒸發(fā)材料
金屬：EI 系列設備能夠蒸發(fā)多種金屬，如鋁、銅、金、銀等，用于制造高導電性和高反射率的金屬膜。這些金屬膜廣泛應用于電子、光學和裝飾性領域。

ITO（Indium Tin Oxide）：ITO 膜具有優(yōu)異的導電性和透明性，廣泛用于制造透明導電膜，如觸摸屏、液晶顯示器和太陽能電池。EI 系列設備能夠精確控制ITO 膜的厚度和均勻性，確保其優(yōu)良的電學和光學性能。

二氧化硅（SiO2）：二氧化硅膜常用于制造絕緣層和光學鍍膜。EI 系列設備在蒸發(fā)SiO2 方面具有高穩(wěn)定性，能夠形成均勻、致密的膜層，適用于半導體和光學元件的制造。

應用場景
電子行業(yè)：在電子元件制造中，EI 系列設備可以用于制造各種金屬連接膜和透明導電膜，提升元件性能和可靠性。
光學行業(yè)：在光學元件制造中，該設備可以蒸發(fā)高質(zhì)量的二氧化硅膜和金屬反射膜，增強光學性能和耐用性。
研究開發(fā)：在新材料和新工藝的研究開發(fā)中，EI 系列設備提供了高度的靈活性和精確控制，是科研人員的理想工具。

Batch式高真空蒸發(fā)設備 EI 系列憑借其高性能、多功能性和易操作性，成為科研和生產(chǎn)中的重要設備。無論是新材料研究還是少量生產(chǎn)需求，該設備都能提供可靠的解決方案。