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當(dāng)前位置：> 供求商機> 無掩膜/激光直寫光刻機
v 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器
v 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm
v 光刻效率：3000mm2/min@5μm
v XY行程：55~205mm
v 樣品尺寸：最小3mm*3mm 8 inch
v 應(yīng)用領(lǐng)域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學(xué)元件、芯片封裝、光通訊芯片光刻
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