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l方案是適用于8吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)l系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)l系統(tǒng)兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圓和不規(guī)則碎片；不同尺寸樣片之間的切換、無(wú)需反應(yīng)腔的開腔破真空l(shuí)系統(tǒng)包括：一個(gè)六端口的轉(zhuǎn)接腔、帶機(jī)械手

l 方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)

l 系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

l 系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規(guī)則碎片；不同尺寸樣片之間的切換、無(wú)需反應(yīng)腔的開腔破真空

l 系統(tǒng)包括：

一個(gè)六端口的轉(zhuǎn)接腔、帶機(jī)械手。

六個(gè)端口分別連接：

（1）一個(gè)ICP-RIE 刻蝕腔模塊：專用于刻蝕鈮酸鋰

（2）一個(gè)ICP-RIE 刻蝕腔模塊：配氟基氣體，主要用于刻蝕介質(zhì)、光刻膠去等

（3）一個(gè) RIE 刻蝕腔模塊：配氯基氣體，主要用于刻蝕金屬等

（4）一個(gè) loadlock 預(yù)真空室模塊：用于單片樣品的手動(dòng)送樣

（5）一個(gè)真空片盒站模塊：用于多片片盒的自動(dòng)送樣

（6）一個(gè)端口備用，未來(lái)可升級(jí)增加 1 個(gè)刻蝕或沉積反應(yīng)腔模塊

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