隨著電子信息技術的快速發(fā)展，對作為電子信息材料重要組成部分的電極漿料提出新的、更高的要求。MLCC作為主要的陶瓷電容，成為被動電子元件中使用為廣泛、用途廣、使用量大的電子元件。

片式多層陶瓷電容器（MLCC）是由印好電極（內(nèi)電極）的陶瓷介質膜片以錯位的方式疊合起來，經(jīng)過一次性高溫燒結形成陶瓷芯片，再在芯片的兩端封上金屬層（外電極），從而形成一個類似獨石的結構體。

MLCC 生產(chǎn)過程中，首先需調漿，即將陶瓷粉和粘合劑、溶劑等按一定比例分散研磨處理，形成陶瓷漿料。質量良好的陶瓷漿料的制備是制作MLCC的基礎。常用的陶瓷漿料是砂磨機處理后的鈦酸鋇漿料，但是采用砂磨機，清洗不方便，且產(chǎn)品性能有局限。近年來越來越多的廠家使用高壓均質機或微射流均質機來處理鈦酸鋇漿料。但因鈦酸鋇顆粒較大，直接用超高壓微射流均質機處理，特別容易堵塞。而只采用高壓均質機，陶瓷漿料的分散研磨效果達不到上佳。所以我們采用高壓均質—微射流兩用均質機來處理物料。

一．高壓均質—微射流兩用均質機介紹：

1. 高壓均質原理

物料通過往復運動的柱塞泵吸入并加壓，在柱塞作用下進入壓力大小可調節(jié)的閥組中，經(jīng)過特定寬度的限流縫隙（工作區(qū)）后，瞬間失壓的物料會產(chǎn)生一個很大的爆破力，以*的流速（1000 至 1500 米/秒）噴出，碰撞在閥組件之一的撞擊環(huán)上，產(chǎn)生了三種效應：空穴效應、撞擊效應、剪切效應，從而達到液體樣品均質、粉碎和乳化的效果。

2. 微射流原理

微射流高壓均質機主要是由分散單元和增壓機構組成，分散單元內(nèi)部通常有“Z”型和“Y”型。在增壓機構的作用下，高壓狀態(tài)下的樣品在分散單元的狹小縫隙間快速通過。此時流體內(nèi)壓力的急劇下降而形成的超聲速流速，流體內(nèi)的粒子碰撞，空化和湍流，剪切力作用于劈開納米大小的細微分子使流體的成分以*的均質的狀態(tài)存在。 

高壓均質機核心部分是均質閥座、均質閥芯和撞擊環(huán)三部分組成；而微射流式高壓均質機核心部分是分散單元。

二．高壓均質—微射流兩用均質機特點：

● *設計高壓均質—微射流兩用均質機，該設備分為高壓均質機分散單元和超高壓微射流分散單元；首先使用高壓均質機分散單元對樣品進行預處理，然后使用超高壓微射流粉碎顆粒，防止堵塞，有效提高工作效率，節(jié)約成本；

● 5.5Kw的大功率電機驅動，保證高壓下穩(wěn)定工作，維護簡單，

● 西門子觸摸屏控制面板，一鍵操作，簡單快捷

● 內(nèi)置電子安全壓力保護裝置，確保安全穩(wěn)定運行

● *的內(nèi)置式冷卻器， 直接冷卻均質點，而且不消耗任何物料

● 所有接觸物料管道均為316L材質

三．實驗過程

1．使用高壓均質分散單元

將預處理好的鈦酸鋇漿料或膠水樣品導入進料杯中，開機，等樣品正常出料后，將壓力逐漸上壓至1500bar，然后一次排出全部物料，高壓均質分散單元操作結束。

2. 使用微射流分散單元粉碎

將上一步處理好的樣品導入進料杯中，首先將設備頻率調整5-10hz左右，開機，注意觀察壓力變化，逐漸增加壓力至目標壓力稍低壓力，充分循環(huán)若干次，加壓至目標壓力，反復均質若干次，均質結束，直接排出物料收集。

3. 分別清洗兩個分散單元，清洗結束，實驗完畢    

四、實驗結果

1. 膠水試驗結果

由表可以看出，均質2遍后，膠水粘度基本不再變化，粘度可以下降35%左右。

1. 漿料試驗結果

由表可以看出，在均質2遍后，漿料的粘度變化不大，粒度和比表面積都呈下降趨勢。

進一步對漿料進行微射流處理2次后，漿料的粘度不再變化。

1. 產(chǎn)品驗證結果：

較砂磨處理，經(jīng)均質機2遍+微射2遍處理后，MLCC產(chǎn)品的容量升高。

五、設備規(guī)格和參數(shù)

六、實驗結論

高壓均質—微射流兩用均質機對MLCC用膠水和鈦酸鋇漿料都有較好的分散作用，產(chǎn)品的容量也提高。

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