電感耦合等離子體質(zhì)譜儀技術(shù)在商業(yè)化無機元素分析設(shè)備中具備優(yōu)良的檢測能力，因而成為超痕量無機元素分析儀市場上重要的設(shè)備。應(yīng)用ICP-MS時，重要的挑戰(zhàn)是同量異位素干擾以及多原子離子干擾的發(fā)生及避免干擾技術(shù)的應(yīng)用。PerkinElmer公司早開發(fā)出以結(jié)合AFT(軸向場技術(shù))的DRC(動態(tài)反應(yīng)池)去除干擾技術(shù)為基礎(chǔ)的Elan DRC Series ICP-MS后，多原子干擾問題得到了根本性的解決。近的DRC Cell技術(shù)在完善，已發(fā)展為UCT(通用池技術(shù)),延伸至PerkinElmer NexlON系列，目前仍被半導體市場用作有效的解決方案。隨著半導體生產(chǎn)現(xiàn)場化學藥品泄漏事故的頻發(fā)及人們對環(huán)境和工業(yè)安全意識的加強，逐漸開始強調(diào)取代DRC Cell技術(shù)中普遍使用的純氨氣反應(yīng)氣的必要性。
本應(yīng)用的目的是確認能否使用對環(huán)境和人體無害的洋氣作為反應(yīng)氣體，來代替半導體制造現(xiàn)場使用的純氨氣反應(yīng)氣，應(yīng)用于硅晶片分析等高純硅基體樣品分析領(lǐng)域。
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