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    NexION 2000S ICP-MS采用PerkinElmer的UCT技術(shù)(通用池技術(shù)),進(jìn)一步強(qiáng)化DRC (動(dòng)態(tài)反應(yīng)池)功能,在與應(yīng)用冷等離子體、有機(jī)物分析方面存在局限的三重四極桿ICP-MS (QQQ ICP-MS)相比有明顯優(yōu)勢(shì),不僅能檢測(cè)金屬元素,還能檢測(cè)非金屬元素。對(duì)受到氬氣(Ar)干擾的元素,三重四極桿ICP-MS (QQQ ICP-MS)采用冷等離子體來躲避干擾,但采用冷等離子體會(huì)存在因等離子體的能量過低而難以使有機(jī)樣品中的金屬成分充分離子化、有機(jī)物介質(zhì)分解不*容易污染等缺點(diǎn),從而導(dǎo)致分析結(jié)果低于實(shí)際值及長(zhǎng)時(shí)間的分析值可信性問題。相反，在所有元素的分析中僅使用熱等離子體的PerkinElmer的UCT-ICP-MS技術(shù)能穩(wěn)定地分析有機(jī)物,得出可信的分析結(jié)果。

 

    本應(yīng)用的目的是檢驗(yàn)NexION 2000S對(duì)在半導(dǎo)體工序中廣泛用于清除PR (光刻膠)工序后殘留的PR有機(jī)物的高純度NMP (N-甲基-2-吡咯烷酮)溶劑中所含的磷(Phosphorous)、硫(Sulfur)及硅(Silicon)的檢測(cè)能力。